[实用新型]一种具有高稳定性的电感耦合等离子体质谱仪

说明书

本实用新型涉及就诊方式，尤其为一种具有高稳定性的电感耦合等离子体质谱仪。包括主控舱，主控舱上有进样舱，进样舱一侧有检测舱，进样舱远离检测舱一侧有雾化喷嘴，雾化喷嘴位于进样舱外部一侧有进液口，雾化喷嘴另一侧有进气口，进样舱上方有固定板，固定板下方位于进样舱内部有六个铜板，铜板上有若干通孔。本实用新型提供了通过在进样系统中放置多孔铜板，使用前打磨铜板表面，再使用高温加热，放置在进样舱内，铜板表面和氧气反应生成氧化铜从而祛除氧气的电感耦合等离子体质谱仪。

技术领域

本实用新型涉及质谱仪，尤其为一种具有高稳定性的电感耦合等离子体质谱仪。

背景技术

电感耦合等离子体质谱仪(简称ICP-MS)，是20世纪80年代发展起来的一种新的微量、痕量和超痕量元素分析技术，电感耦合等离子起到离子源的作用，利用在电感线圈上施加强大功率的高频射频信号在线圈内部形成高温等离子体，并通过气体的推动，保证了等离子体的平衡和持续电离，被分析样品由蠕动泵送入雾化器形成气溶胶，由载气带入等离子体焰炬中心区，发生蒸发、分解、激发和电离，高温的等离子体使大多数样品中的元素都电离出一个电子而形成了一价正离子，再通过接口将等离子体中的离子有效传输到质谱仪。

一般来说，ICP-MS在检测过程中，经常因为各种因素产生干扰，ICP-MS中的干扰可分为两大类：质谱干扰和非质谱干扰，质谱干扰是ICP-MS中见到的最严重的干扰类型，通常对分析物离子流测量结果产生正误差，可进一步分为：同量异位素重叠干扰；多原子离子干扰；难熔氧化物干扰；双电荷离子干扰，其中多原子离子干扰是最常见的质谱干扰类型，干扰来源为：等离子体/雾化所使用的气体、溶剂/样品的基体组分、样品中其他元素离子或者是来自周围环境氧气/氮气，其中设备内和样品中的氧气是最常见的干扰源，现有的减少干扰的方法主要是对空气内氧气进行测定，预测干扰，调节参数，但是使用时设备内氧气混合量每次都不相同，每次使用都需要对氧气进行测定，然后调节参数，非常的不方便。

实用新型内容

为了解决背景技术中存在的问题，本实用新型提供了通过在进样系统中放置多孔铜板，使用前打磨铜板表面，再使用高温加热，放置在进样舱内，铜板表面和氧气反应生成氧化铜从而祛除氧气的电感耦合等离子体质谱仪。

本实用新型提供的技术方案为一种具有高稳定性的电感耦合等离子体质谱仪，其特征在于：包括主控舱，所述主控舱上设有进样舱，所述进样舱一侧设有检测舱，所述进样舱远离检测舱一侧设有雾化喷嘴，所述雾化喷嘴位于进样舱外部一侧设有进液口，所述雾化喷嘴另一侧设有进气口，所述进样舱上方设有固定板，所述固定板下方位于进样舱内部设有六个铜板，所述铜板上设有若干通孔。

所述检测舱内部设有ICP陶瓷矩管、离子镜、分析器和检测器。

所述ICP陶瓷矩管一端与进样舱内部连接，所述ICP陶瓷矩管另一端与离子镜连接，所述离子镜内部与分析器内部相通，所述分析器内部与检测器内部相通。

所述主控舱上方设有放置台，所述放置台上设有溶液瓶，所述溶液瓶上设有溶液出口。

所述主控舱上方设有蠕动泵，所述溶液出口与进液口之间通过管道连接，所述主控舱上方位于蠕动泵一侧设有触控屏。

六个所述铜板长度由检测舱至雾化喷嘴上方逐渐减小。

所述雾化喷嘴出口位于进样舱内部。

本实用新型的有益效果：

本实用新型提供了通过在进样系统中放置多孔铜板，使用前打磨铜板表面，再使用高温加热，放置在进样舱内，铜板表面和氧气反应生成氧化铜从而祛除氧气的一种具有高稳定性的电感耦合等离子体质谱仪。

附图说明

图1为本实用新型一种具有高稳定性的电感耦合等离子体质谱仪的整体结构示意图

图2为本实用新型一种具有高稳定性的电感耦合等离子体质谱仪的进样舱内部结构示意图