[实用新型]一种真空镀膜设备用离子扫描装置

说明书

本实用新型公开了一种真空镀膜设备用离子扫描装置，包括本体，所述本体为等边直角三角形板型结构，所述本体设有与斜边垂直的拱形圆弧及切平面开口，所述本体三角边处设有用于安装线圈支架的九个螺纹孔，所述本体设有三个沉孔，所述本体设有三个通孔，所述本体设有用于安装L型固定座的三个螺纹孔。本实用新型的优点是：扫射范围大，可实现大面积无死角镀膜，设备利用率高，工作性能稳定；结构简单、轻便、灵活可调，安装拆缷方便，工作安全可靠，涂层均匀、光亮，镀膜效果好，保证了镀膜质量，同时极大地提高了生产效率和降低了生产成本。

技术领域：

本实用新型涉及一种真空镀膜设备用离子扫描装置，属于电磁领域。

背景技术：

现有的真空镀膜设备用离子扫描装置所采用的离子扫描结构，因结构不合理，导致扫射范围窄，扫描效果很不理想，设备利用率低，影响生产效率，离子扫描装置在设备整个真空镀膜的过程中，对保证镀膜质量和提高生产效率起了较大的作用。

实用新型内容：

本实用新型是为了解决上述不足，提供了一种真空镀膜设备用离子扫描装置。

本实用新型的上述目的通过以下的技术方案来实现：一种真空镀膜设备用离子扫描装置，其特征在于：包括本体，所述本体为等边直角三角形板型结构，所述本体设有与斜边垂直的拱形圆弧及切平面开口，所述本体三角边处设有用于安装线圈支架的九个螺纹孔，所述本体设有三个沉孔，所述本体设有三个通孔，所述本体设有用于安装L型固定座的三个螺纹孔。

本实用新型的设计及工作原理：

真空镀膜设备用离子扫描装置工作原理：离子扫描装置本体为铝合金制作，其安装固定在过滤阴极电弧源的出口端，通电后，本体上面的线圈绕组产生磁场，根据安培定则，线圈两端就是磁极(N极和S极)，再根据左手定则，就可确定从碳靶材离化出来并通过过滤的纯离子的受力方向，改变电流方向，受力方向也相应改变，即横向的一组因受力向上、下扫射，而纵向的一组因受力向左、右扫射，使纯离子沉积在工件表面，达到镜面镀膜效果，极大地提高了镀膜质量和生产效率。

本实用新型与现有技术相比的优点是：本实用新型真空镀膜设备用离子扫描装置，扫射范围广，可实现大面积无死角镀膜，设备利用率高，工作性能稳定；结构简单、轻便、灵活可调，安装拆缷方便，工作安全可靠，涂层均匀、光亮，镀膜效果好，保证了镀膜质量，同时极大地提高了生产效率和降低了生产成本。

附图说明：

图1是本实用新型的的外观示意图。

图2是本实用新型未安装线圈绕组的外观示意图。

图3是本实用新型安装在真空镀膜设备的外观示意图。

具体实施方式：

下面结合附图对本实用新型进一步详述。

如图1所示，一种真空镀膜设备用离子扫描装置，包括本体1，所述本体1为等边直角三角形板型结构，所述本体1设有与斜边垂直的拱形圆弧及切平面开口2，所述本体1设有用于安装线圈支架8的九个螺纹孔3，所述本体1设有三个沉孔4，所述本体1设有三个通孔5，所述本体1设有用于安装L型固定座7的三个螺纹孔6。

如图2、图3所示，装配时，先将三个线圈支架8按图示分别安装固定于本体1上面，再将二个线圈绕组10按图示分别安装于线圈支架8内侧，然后再将三个L型固定座7按图示分别安装固定于本体1上面，最后将三个压块9按图示分别安装固定于线圈支架8及二个线圈绕组10的上面。

本实用新型的设计及工作原理：