[实用新型]清洁件、清洁组件及清洁机

权利要求书

1.一种清洁件，用于清洁机，其特征在于，包括：清洁件本体与防滑结构，所述防滑结构设于所述清洁件本体，用于增大所述清洁件与待清洁面之间的摩擦力。

2.根据权利要求1所述的清洁件，其特征在于，所述防滑结构位于所述清洁件的内表面，或者位于所述清洁件的外表面。

3.根据权利要求1所述的清洁件，其特征在于，所述防滑结构包括设于所述清洁件本体上的多个防滑凸起。

4.根据权利要求3所述的清洁件，其特征在于，多个所述防滑凸起形成至少一个圈层，同一圈层的所述防滑凸起间隔设置，或者彼此连接。

5.一种清洁组件，其特征在于，包括行走结构以及如权利要求1-4任一项所述的清洁件，所述清洁件设置在所述行走结构上。

6.根据权利要求5所述的清洁组件，其特征在于，所述行走结构包括清洁转盘与行走转盘，所述清洁转盘与所述行走转盘彼此套设；所述清洁件设置在所述行走转盘上，和/或设置在所述清洁转盘上。

7.一种清洁机，其特征在于，包括：清洁机主体以及如权利要求6所述的清洁组件，所述清洁组件为至少一个，所述至少一个清洁组件装设在所述清洁机主体上，至少一个所述清洁组件移动，以带动所述清洁机主体移动。

8.根据权利要求7所述的清洁机，其特征在于，所述清洁机主体、清洁组件与待清洁面之间形成密闭空间，所述清洁机还包括负压装置，所述负压装置与所述清洁机主体连接、以使得所述密闭空间内产生负压。

9.根据权利要求7所述的清洁机，其特征在于，所述行走转盘的中心轴相对于所述清洁机主体的中心轴倾斜，以在所述清洁机工作时、所述行走转盘具有与待清洁面接触的高摩擦区和低摩擦区，所述高摩擦区相对待清洁面之间的摩擦力大于所述低摩擦区相对待清洁面之间的摩擦力。

10.根据权利要求9所述的清洁机，其特征在于，所述行走转盘的中心轴相对于所述清洁机主体的中心轴倾斜角度包括0-30度。