[实用新型]一种釉料喷淋装置

说明书

本实用新型公开了一种釉料喷淋装置，包括流水线、供釉机构、淋釉机构和收集机构；供釉机构包括设在流水线一侧的支架，支架上设有存釉箱，存釉箱的下方设有电机，电机通过齿轮减速组连接有旋转轴，旋转轴的顶端设有中转箱，中转箱设在存釉箱内，中转箱的底端设有进釉口，上端设有抽釉泵，抽釉泵的出口设有刚性的出釉管；淋釉机构包括喷头和设在喷头的下方水平的淋釉钟罩，喷头与淋釉钟罩之间还设有分流头，分流头的顶端呈伞状设在喷头的上方，分流头的一侧封闭设置。该釉料喷淋装置的优点在于：淋釉厚度均匀，淋釉的外观与质量较好，装置清洁方便，清洁效率高。

技术领域

本实用新型涉及瓷砖生产技术领域，尤其涉及一种釉料喷淋装置。

背景技术

瓷砖，是以耐火的金属氧化物及半金属氧化物，经由研磨、混合、压制、施釉、烧结之过程，而形成的一种耐酸碱的瓷质或石质等，建筑或装饰材料，称之为瓷砖。在瓷砖表面喷淋一层釉层，可以使瓷砖更加美观，而且可以延缓磨损，提高耐用度。

现有的淋釉装置，一般通过设在淋釉钟罩上方的釉斗将釉料淋在淋釉钟罩上，釉料顺着淋釉钟罩流向淋釉钟罩下方的瓷砖表面，从而在瓷砖表面形成釉层。由于淋釉装置设在生产线的上方，拆装麻烦、清洗困难。而且，由于淋釉钟罩为圆盘形，需要在淋釉钟罩上放置长条形的纺织物，纺织物横跨在生产线的上方，纺织物将淋釉钟罩的上表面分成大致相等的两块区域，使釉料在瓷砖进入淋釉区域的一端进行淋釉。由于纺织物附近的釉料多于其它位置的釉料，使得淋釉后容易出现瓷砖的两侧釉层厚度大于中间釉层厚度的现象，从而影响瓷砖的外观与耐用性。釉斗内釉料的高度存在变化的情况，使得釉斗内釉料的出口速度不一致，这样也会引起瓷砖表面的釉层厚度不一致，容易影响瓷砖的外观和质量。

为此我们提出了一种釉料喷淋装置。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种釉料喷淋装置，具有清洗方便、釉料的流速一致性较好的优点。

为了实现上述目的，本实用新型采用了以下技术方案：

一种釉料喷淋装置，包括：流水线、设在流水线一侧的供釉机构、设在流水线上方的淋釉机构和设在流水线下方的收集机构。

所述供釉机构包括设在流水线一侧的支架，支架上设有存釉箱，存釉箱的下方设有电机，电机通过齿轮减速组连接有旋转轴，旋转轴的顶端设有中转箱，中转箱设在存釉箱内，中转箱的底端设有进釉口，上端设有抽釉泵，抽釉泵的出口设有刚性的出釉管，出釉管的末端竖直向上设置。

所述淋釉机构包括设在出釉管末端倾斜的喷头和设在出釉管上喷头的下方水平的淋釉钟罩，淋釉钟罩与流水线对应设置，喷头与淋釉钟罩之间还设有与喷头对应的分流头，分流头的顶端呈伞状设在喷头的上方，分流头的一侧封闭设置。

所述收集机构包括设在流水线下方的收集槽，收集槽与淋釉钟罩对应设置。

进一步的，所述出釉管的外侧套设有装配管，装配管设在喷头的下方，装配管的中间设有下外螺纹，装配管的下端设有水平的安装板，安装板上均匀设有4个托举臂，淋釉钟罩的内侧设有与托举臂配合的定位臂，定位臂的横截面呈下端开口的U形，淋釉钟罩的顶端设有与装配管配合的竖直的圆管部，圆管部的上方设有与装配管的下外螺纹配合的端盖。

进一步的，所述端盖与装配管之间设有密封圈，密封圈设在外螺纹的上方。

进一步的，所述装配管的上端设有上外螺纹，上外螺纹的下方设有分流固定部，分流固定部的一侧设有竖直的定向平面，分流头的底端设有与分流固定部配合的定向孔，分流头底端的上方设有与上外螺纹配合的固定螺母。

进一步的，所述出釉管的末端设有内螺纹安装部，喷头的底端设有与内螺纹安装部配合的外螺纹。

进一步的，所述存釉箱与淋釉钟罩之间设有与旋转轴对应的弧形导轨，弧形导轨上设有与弧形导轨配合的支撑杆，支撑杆的顶端与出釉管对应设置。