[实用新型]一种新型二次地漏结构

权利要求书

1.一种新型二次地漏结构，其特征在于：包括由下至上依次设置有填充层、找平层、防水层、干浆层和面层，所述面层和填充层之间设置有地漏结构，所述地漏结构包括地漏口、接管一、二排口和接管二，所述地漏口设置在面层上，且地漏口的上端与面层平齐或低于面层上表面，所述接管一和二排口均位于干浆层内，接管一的上端与地漏口连接，下端与二排口连接，所述接管二从上到下依次置于干浆层、防水层、硬化层和填充层，接管二的上端与二排口连接。

2.根据权利要求1所述的一种新型二次地漏结构，其特征在于：所述二排口为设置在接管一下端侧面的均匀多个通孔。

3.根据权利要求2所述的一种新型二次地漏结构，其特征在于：所述二排口外侧覆盖有过滤网。

4.根据权利要求1所述的一种新型二次地漏结构，其特征在于：所述找平层为水泥硬化层。

5.根据权利要求1所述的一种新型二次地漏结构，其特征在于：所述填充层为砂浆层。

6.根据权利要求1所述的一种新型二次地漏结构，其特征在于：所述防水层为无机防水材料制成。

7.根据权利要求1所述的一种新型二次地漏结构，其特征在于：所述面层为瓷砖层。