[实用新型]显示面板干燥装置

说明书

本实用新型提供了一种显示面板干燥装置，包括：至少一个支撑滚轮组件，单个支撑滚轮组件包括：基座，基座具有突出部；固定于突出部的上侧或下侧的调整块，突出部具有第一螺孔，第一螺孔贯穿突出部并至少穿过部分调整块；固定于调整块左侧或右侧的可调节支架，可调节支架上具有至少一个支撑滚轮；与第一螺孔相匹配的第一调节螺钉，通过第一调节螺钉调整突出部与调整块在高度方向上的间隙。通过第一调节螺钉调整突出部与调整块在高度方向上的间隙，调整可调节支架的高度，从而调整支撑滚轮的高度，以改进干燥制程的工艺过程，改善湿法制程后的水残问题，从而提高面板的良率和可靠性。

【技术领域】

本实用新型涉及显示面板制造过程中的生产设备，具体涉及一种显示面板干燥装置。

【背景技术】

在面板制造工艺中，湿制程设备即使用水、洗剂或化学品等液态物质对玻璃基板进行加工的工艺设备，包含玻璃基板清洗设备(Cleaner)、光阻涂布显影设备(CoaterDevelop)、湿法刻蚀设备(Wet Etching)和光阻剥离设备(Stripper)等。其中，按照清洗原理来分，清洗设备可分为干法清洗设备和湿法清洗设备。湿法工艺是指使用腐蚀性或氧化性较强的溶剂进行喷雾或擦洗，使硅表面的杂质与溶剂发生化学反应，生成可溶性物质或气体，从而将面板表面的颗粒或其它金属离子清洗掉的过程。干法工艺指不使用化学试剂的清洗技术，包含等离子清洗、气相清洗等。在实际生产过程中一般将两种方法结合使用，目前90％以上的清洗步骤以湿法设备为主，少部分特定站点使用干法清洗来提高清洗效率。

一般情况下，在进行湿法制程之后，会进行干燥制程，以去除湿法制程后的液体。其中，风刀干燥装置已被大量的应用于TFT-LCD(薄膜晶体管液晶显示器)的干燥制程中，通过使用风刀干燥装置将残存的制程液体吹除干净，使玻璃基板表面维持干燥。当对放置在风刀干燥装置上的玻璃基板进行干燥制程时，容易因为玻璃基板的高度不同，使得玻璃基板的某些范围无法被吹除干净，导致湿法制程后的液体残留(即水残)，造成面板良率和可靠性的问题。然而，在面板生产过程中，湿制程后水残对良率的影响很大，如何把控湿法制程之后的干燥制程所带来的不良已成为一个严峻的课题。一般情况下，风刀干燥不良有诸多因素比如，AK流量压力不匹配、AK本体slit(狭缝)堵塞、变形、AK chamber(反应腔)排气压力、AK support roller(支撑滚轮)高度不一等都会导致水残的发生。现有的AK supportroller因设计与固定方式因素影响，导致支撑滚轮的高度调整难度较大且效果难以把控，容易导致水残的发生，从而影响面板的良率和可靠性。

因此，现有技术存在缺陷，有待改进与发展。

【实用新型内容】

本实用新型提供一种显示面板干燥装置，有利于调整显示面板干燥装置的高度。

为了解决上述问题，本实用新型提供了一种显示面板干燥装置，包括：至少一个支撑滚轮组件，单个支撑滚轮组件包括：基座，基座具有突出部；固定于突出部的上侧或下侧的调整块，突出部具有第一螺孔，第一螺孔贯穿突出部并至少穿过部分调整块；固定于调整块左侧或右侧的可调节支架，可调节支架上具有至少一个支撑滚轮；与第一螺孔相匹配的第一调节螺钉，通过第一调节螺钉调整突出部与调整块在高度方向上的间隙。

其中，显示面板干燥装置，还包括：

底板；

位于底板上方的支架固定块，支架固定块用于固定支撑滚轮组件；

固定块，固定块位于支架固定块的两侧中的至少一侧，用于在水平方向上固定支架固定块，支架固定块具有至少一个第二螺孔；

与第二螺孔相匹配的第二调节螺钉；

其中，第二螺孔贯穿支架固定块并延伸到底板中，通过第二调节螺钉调整支架固定块与底板在高度方向上的间隙。

其中，显示面板干燥装置包括多个固定块，多个固定块分别位于支架固定块的两侧，用于在水平方向上固定支架固定块。