[实用新型]一种滴酸装置及滴酸机台

说明书

本实用新型提供了一种滴酸装置及滴酸机台，其包括滴酸头、滴酸腔、储酸腔，滴酸头与滴酸腔中通连接，储酸腔位于滴酸腔侧方，滴酸腔侧壁有一圆孔，储酸腔通过该圆孔与滴酸腔相连通，储酸腔内设置一储酸棒，储酸棒可在该圆孔内伸缩旋转，储酸棒上设有多个储酸囊，每个储酸囊单位容积一定，储存酸液的体积精确，通过控制储酸棒伸入滴酸腔的距离，进而控制滴酸量，再通过设置的气动装置，将精准的酸液加压滴出，以解决现有技术中由于滴酸头距玻璃基板间距均一性不佳而导致的蚀刻不良或漏滴风险的问题，以提高滴酸装置的滴酸效果，进而保证液晶面板产品的质量。

技术领域

本实用新型涉及显示技术领域，特别涉及一种滴酸装置及滴酸机台。

背景技术

目前，液晶面板行业在制作On-cell工艺的触控显示屏时，在薄膜晶体管阵列基板与彩膜基板组装完成液晶面板(LCD)后，需要在彩膜基板上再制作触控面板(Touch Panel,TP)。为避免触控面板与液晶面板的重叠偏移过大造成触控功能异常，故在制作触控面板的第一道膜时，需要通过对位标记(Alignment Mark)进行对准。现有技术下，目前在制作触控面板的第一道膜时，需要先在液晶面板内做好对位标记，还需要通过滴酸装置将不透明的金属层腐蚀，以便于后续曝光机寻找CF侧mark来对位，以供后续制作触控线路图案时对位使用。而滴酸头距玻璃基板的间距有严格要求，在现有技术中，滴酸装置进行滴酸蚀刻，滴酸头通过针头的方式将酸液滴在金属导电层上，如图1 所示，图1为滴酸头距玻璃基板700间距太小时，滴酸头压得过低，会把中间酸液挤压到旁边，中间区域产生蚀刻不良情况；如图2所示，滴酸头距玻璃基板700间距太大时，滴酸头位置过高，酸液接触不到基板700，酸液粘附在滴酸头周围，产生漏滴风险。

现有技术中为解决滴酸头与玻璃基板间距的均一性不佳的问题，主要是通过采用测高仪来进行每一点的数据测量，然后通过测量出来的数据做单点高度的抵消，从而确保每一点滴酸头高度符合规格要求，进而来确保滴酸品质以及保证液晶面板质量。然而通过测高仪量测每点数据然后再进行单点抵消，增加了设备成本，以及多余测高动作还会严重影响单片的投产时间，在无形中增加制成的复杂度和可控度。

有鉴于此，针对上述所导致的诸多情况及不便，亟待提供一种新型的滴酸装置及滴酸机台，以解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种滴酸装置及滴酸机台，以解决现有技术中由于滴酸头距玻璃基板间距均一性不佳而导致的蚀刻不良或漏滴风险的问题，以提高滴酸装置的滴酸效果，进而保证液晶面板产品的质量。

为了达成上述目的，本实用新型的解决方案是：

一种滴酸装置，包括：

滴酸头、滴酸腔，所述滴酸头位于所述滴酸腔下方，所述滴酸头与所述滴酸腔中通连接，所述滴酸腔侧方设置有一储酸腔，所述滴酸腔腔侧壁设置有一圆孔，所述储酸腔通过所述圆孔与所述滴酸腔相连通，所述储酸腔内设置一储酸棒，所述储酸棒上设置有至少一个单位储酸囊，所述储酸棒可在所述圆孔内伸缩旋转。

进一步地，所述滴酸装置还包括用于向所述滴酸装置提供动力的气动装置，所述气动装置与滴酸装置气动连接。

进一步地，所述气动装置底部有气动阀门，所述气动阀门的压力值范围在 100～500Kpa。

进一步地，所述储酸腔内设置有活塞装置，所述活塞装置包括活塞头、活塞杆，所述活塞头通过活塞推杆驱动，且所述活塞头与所述储酸腔腔壁紧贴，所述活塞头靠近滴酸腔的内侧与所述储酸棒固定连接。

进一步地，所述活塞装置与所述储酸棒一体连接，所述储酸棒与所述活塞装置可一同旋转。

进一步地，所述储酸囊为开口的凹穴，所述储酸囊的容积为固定容积，所述固定容积的酸液量至少为0.0001cc。

进一步地，所述储酸腔上设置有入酸口，所述入酸口处装有逆止阀机构，所述单向逆止阀机构与酸液供应管路相连接。