[实用新型]清洁系统、基站

权利要求书

1.一种清洁系统，其特征在于，包括：

清洁设备(1)，所述清洁设备(1)包括地刷组件(11)，所述地刷组件(11)包括地刷壳体(12)，以及设置在所述地刷壳体(12)前侧边缘的滚刷(13)；

基站(2)，所述基站(2)被构造为用于放置所述清洁设备(1)；所述基站(2)的底座(21)上设置清洗槽(22)，所述清洗槽(22)被构造为用于容纳至少部分滚刷(13)；在所述清洗槽(22)中设置有UV光组件(23)；所述滚刷(13)在潮湿状态时其面向所述UV光组件(23)的表面被构造为与所述UV光组件(23)之间具有间隙；所述UV光组件(23)发出的光线被配置为通过所述间隙照射到所述滚刷(13)的至少部分表面。

2.根据权利要求1所述的清洁系统，其特征在于，所述清洗槽(22)被配置为沿着X轴方向延伸，其包括槽底(221)以及位于槽底(221)相对两侧的前槽壁(222)和后槽壁(223)；所述UV光组件(23)包括至少两个在X轴方向上排列的UV灯(231)。

3.根据权利要求2所述的清洁系统，其特征在于，所述UV光组件(23)包括位于清洗槽(22)下方的灯板(232)，所述灯板(232)通过盖板(233)固定在所述清洗槽(22)的下方；至少两个UV灯(231)分布在所述灯板(232)上；还包括至少两个灯罩(234)；在所述清洗槽(22)上开设有至少两个用于与所述灯罩(234)配合的通孔；所述UV灯(231)发出的光线被配置为穿过所述灯罩(234)照射在所述滚刷(13)的至少部分表面。

4.根据权利要求3所述的清洁系统，其特征在于，所述灯罩(234)的外部端面与所述清洗槽(22)的内壁齐平。

5.根据权利要求2所述的清洁系统，其特征在于，沿X轴方向间隔排布的相邻两个所述UV灯(231)的发光角度交叉点位于所述滚刷(13)对应表面的外侧或者，沿X轴方向间隔排布的相邻两个所述UV灯的发光角度交叉点位于所述滚刷的对应表面。

6.根据权利要求2所述的清洁系统，其特征在于，所述UV灯(231)沿X轴方向间隔排列在所述清洗槽(22)的槽底(221)，或者是，所述UV灯(231)沿X轴方向间隔排列在所述清洗槽(22)的前槽壁(222)，或者是，所述UV灯(231)沿X轴方向间隔排列在所述清洗槽(22)的后槽壁(223)。

7.根据权利要求6所述的清洁系统，其特征在于，所述UV灯(231)的发光角度被配置：所述UV灯(231)发出的照射在所述滚刷(13)表面之外的光线被配置为被地刷壳体(12)遮挡或者被清洗槽(22)遮挡。

8.根据权利要求2所述的清洁系统，其特征在于，所述UV灯(231)至少设置有两排，其中至少一排所述UV灯(231)沿X轴方向间隔排列在所述清洗槽(22)的后槽壁(223)；至少一排所述UV灯(231)沿X轴方向间隔排列在所述清洗槽(22)的前槽壁(222)。

9.根据权利要求8所述的清洁系统，其特征在于，位于前槽壁(222)上UV灯(231)与位于所述后槽壁(223)上UV灯(231)正对设置或者相互错开预定的距离。

10.根据权利要求8所述的清洁系统，其特征在于，由所述清洗槽(22)两端至所述清洗槽(22)中心的方向上，所述UV灯(231)以逐渐远离所述清洗槽(22)的方式布置。

11.根据权利要求3所述的清洁系统，其特征在于，所述UV灯(231)的发光角度为130°。

12.根据权利要求1所述的清洁系统，其特征在于，在所述底座(21)上还设置有容纳部(24)，在所述容纳部(24)的侧壁上设置有UV光组件(23)，所述UV光组件(23)发出的光线被配置为照射在位于所述容纳部(24)中的附件上。