[实用新型]真空镀膜机构及镀膜装置

权利要求书

1.一种真空镀膜机构，其特征在于，包括筒体以及门体；

所述门体的一侧与所述筒体的一侧转动连接，所述筒体与所述门体围设成镀膜室，所述筒体上形成有排气口，能够将所述镀膜室内的气体排出；

所述镀膜室内对应所述筒体与所述门体的位置形成有多个安装位，且多个所述安装位对应布设有弧源机构、刻蚀机构、加热机构以及离子枪机构，且所述镀膜室内还设有阳极组件，所述阳极组件与所述离子枪机构相对设置。

2.根据权利要求1所述的真空镀膜机构，其特征在于，所述筒体包括筒主体、上盖以及下盖；

所述弧源机构、所述刻蚀机构、所述加热机构以及所述离子枪机构均布设于所述筒主体上；

所述上盖上形成有阳极座，所述阳极组件与所述阳极座相连接。

3.根据权利要求2所述的真空镀膜机构，其特征在于，所述镀膜室的横截面呈八边形结构，所述安装位包括第一安装位和第二安装位，所述筒主体具有五个所述第一安装位，所述门体具有三个所述第二安装位；

所述筒体的其中两个所述第一安装位布设有所述弧源机构，其中一个所述第一安装位布设有所述排气口和所述加热机构，其余两个所述第一安装位布设有所述离子枪机构和所述刻蚀机构；

所述门体的其中两个所述第二安装位布设有所述弧源机构，另外一个所述第二安装位布设有加热机构。

4.根据权利要求3所述的真空镀膜机构，其特征在于，所述筒主体上布设的两个所述弧源机构间隔设置，且位于所述筒主体的加热机构的两侧；

所述门体上布设的两个所述弧源机构间隔设置，且位于所述门体的所述加热机构的两侧；

所述刻蚀机构与所述离子枪机构相对设置，且所述刻蚀机构与其中一个所述弧源机构相邻设置，所述离子枪机构与另一个所述弧源机构相邻设置。

5.根据权利要求1所述的真空镀膜机构，其特征在于，所述弧源机构均包括至少三个第一承载部，且三个所述第一承载部沿所述镀膜室的高度方向排布；

所述离子枪机构包括至少三个第二承载部，且三个所述第二承载部沿所述镀膜室的高度方向排布；

所述刻蚀机构包括至少两个第三承载部，且两个所述第三承载部沿所述镀膜室的高度方向排布。

6.根据权利要求2所述的真空镀膜机构，其特征在于，所述加热机构包括多个加热接口，且所述筒主体上的多个所述加热接口呈两排在所述镀膜室的高度方向上相对设置，且分布于所述排气口的两侧；

所述门体上的多个所述加热接口与所述筒主体上的多个所述加热接口一一对应设置。

7.根据权利要求2所述的真空镀膜机构，其特征在于，还包括冷却水路，所述冷却水路分布于所述筒主体、所述上盖、所述下盖以及所述门体内。

8.根据权利要求2所述的真空镀膜机构，其特征在于，还包括测温组件和吊装组件；

所述测温组件与所述上盖相连接，且位于所述镀膜室内，所述吊装组件与所述上盖相连接，且位于所述上盖背离所述镀膜室的一侧。

9.根据权利要求1所述的真空镀膜机构，其特征在于，还包括多个观察窗，多个所述观察窗分布于所述门体和所述筒体上。

10.一种镀膜装置，其特征在于，包括上述权利要求1-9中任一项所述的真空镀膜机构。