[实用新型]一种结晶器钢水液位的电涡流检测系统

权利要求书

1.一种结晶器钢水液位的电涡流检测系统，其特征在于，包括结晶器装置和涡流传感器；

所述结晶器装置包括主壳体以及凸设于主壳体的安装壳体；

所述主壳体内由上至下依次设置有空气层、粉渣层、熔渣层以及钢液层；

所述安装壳体内设置有低频线圈组和高频线圈组，所述低频线圈组包括同心设置的低频激励线圈和低频检测线圈，所述低频激励线圈用于产生第一磁场，使钢液层产生第一涡流信号；所述低频检测线圈用于检测钢液层内变化的第一电压值；所述高频线圈组包括同心设置的高频激励线圈和高频检测线圈；所述高频激励线圈用于产生第二磁场，使熔渣层产生第二涡流信号；所述高频检测线圈用于检测熔渣层内变化的第二电压值；

所述涡流传感器设置在主壳体的内侧壁上，用于检测钢液层产生的第一涡流信号和熔渣层产生的第二涡流信号。

2.根据权利要求1所述的结晶器钢水液位的电涡流检测系统，其特征在于，所述低频线圈组的数量为两组，两组所述低频线圈组间隔设置。

3.根据权利要求1所述的结晶器钢水液位的电涡流检测系统，其特征在于，所述低频激励线圈的半径小于所述低频检测线圈的半径；所述低频激励线圈的匝数小于低频检测线圈的匝数。

4.根据权利要求1所述的结晶器钢水液位的电涡流检测系统，其特征在于，所述低频激励线圈的厚度小于低频检测线圈的厚度。

5.根据权利要求1所述的结晶器钢水液位的电涡流检测系统，其特征在于，所述高频线圈组的数量为两组，两组所述高频线圈组间隔设置。

6.根据权利要求1所述的结晶器钢水液位的电涡流检测系统，其特征在于，所述高频激励线圈的半径小于所述高频检测线圈的半径；所述高频激励线圈的匝数小于高频检测线圈的匝数。

7.根据权利要求1所述的结晶器钢水液位的电涡流检测系统，其特征在于，所述高频激励线圈的厚度等于所述高频检测线圈的厚度。

8.根据权利要求1所述的结晶器钢水液位的电涡流检测系统，其特征在于，所述低频检测线圈的半径大于所述高频检测线圈的半径，所述低频激励线圈的半径大于所述高频激励线圈的半径。

9.根据权利要求1所述的结晶器钢水液位的电涡流检测系统，其特征在于，所述低频激励线圈的激励频率大于所述高频激励线圈的激励频率。