[实用新型]一种环境艺术设计用装饰瓷砖有效

专利信息
申请号: 202220714824.5 申请日: 2022-03-29
公开(公告)号: CN217027867U 公开(公告)日: 2022-07-22
发明(设计)人: 徐俊辉;王庆;姜鸣 申请(专利权)人: 武汉理工大学
主分类号: E04F13/077 分类号: E04F13/077;E04F13/076;E04F13/21;E04F13/24;E04F15/02;E04F15/10
代理公司: 武汉菲翔知识产权代理有限公司 42284 代理人: 梁燕飞
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 环境艺术设计 装饰 瓷砖
【说明书】:

本实用新型公开了一种环境艺术设计用装饰瓷砖,包括基座一和基座二,所述基座一和基座二的顶端均设置有装饰层,所述基座一的四周侧壁设置有一体成型的限位条,所述基座二的四周侧壁设置有一体成型的限位槽,所述限位槽的深度比限位条的宽度短二至三毫米,所述限位条的一侧外壁设置有对称分布的限位柱,所述限位槽的一侧内壁设置有对称分布的限位孔,所述限位柱与限位孔相匹配,所述基座一和基座二的底端均设置有等距离分布的防滑凸起,且防滑凸起呈圆柱形。本实用新型通过设置有限位柱和限位孔,在进行两块瓷砖拼接时,我们先将限位柱对准限位孔插入,此时在进行限位条插入到限位槽内就会使两块瓷砖整齐对接,提高工作效率。

技术领域

本实用新型涉及装饰瓷砖技术领域,尤其涉及一种环境艺术设计用装饰瓷砖。

背景技术

瓷砖,是以耐火的金属氧化物及半金属氧化物,经由研磨、混合、压制、施釉、烧结之过程,而形成的一种耐酸碱的瓷质或石质等,建筑或装饰材料,称之为瓷砖。其原材料多由粘土、石英砂等等混合而成。一般来讲,环境装饰采用的瓷砖以施秞砖居多,施秞砖美观大方,被广泛应用于墙面和底板装饰。

经检索,中国专利申请号为202020242480.3的专利,公开了一种环境艺术设计环境装饰瓷砖,涉及装饰瓷砖技术领域,解决了现有在瓷砖铺贴施工时,必须保证瓷砖之间所留缝隙保持一致,且在较长时间后容易引起部分的瓷砖脱落的问题。一种环境艺术设计环境装饰瓷砖,包括装饰层;所述装饰层通过高温烧制固定在固定基底的顶部。该装置限位槽的宽度要比限位条的宽度短二至三毫米,使得固定基底在安装完成后,固定基底之间可以自动预留出二至三毫米的缝隙,且防滑凸起能够通过正梯形的网格边将砂浆牢牢的包裹在防滑凸起的内部,在固定基底与墙面或者地面铺贴后,能够将固定基底牢牢的固定在墙面或者地面的表面,防止固定基底在以后的使用过程中会意外脱落。

上述专利中的瓷砖可以保持贴好的瓷砖之间留有一定的缝隙,方便固定基底的安装和以后的顶部嵌缝施工,需要将限位条卡入到限位槽内,但是在实际施工过程中,很难将两块瓷砖进行整齐对接,容易发生错位,进而需要工人的后续调整,比较麻烦。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种环境艺术设计用装饰瓷砖,以解决上述背景技术中提出的问题。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:

一种环境艺术设计用装饰瓷砖,包括基座一和基座二,所述基座一和基座二的顶端均设置有装饰层,所述基座一的四周侧壁设置有一体成型的限位条,所述基座二的四周侧壁设置有一体成型的限位槽,所述限位槽的深度比限位条的宽度短二至三毫米,所述限位条的一侧外壁设置有对称分布的限位柱,所述限位槽的一侧内壁设置有对称分布的限位孔,所述限位柱与限位孔相匹配。

作为本技术方案的进一步改进方案:所述基座一和基座二的底端均设置有等距离分布的防滑凸起,且防滑凸起呈圆柱形。

作为本技术方案的进一步改进方案:所述防滑凸起的一端固定设置有连接块,所述连接块的横截面积大于防滑凸起的横截面积。

作为本技术方案的进一步改进方案:所述连接块的一侧为圆锥结构。

作为本技术方案的进一步改进方案:所述连接块的一侧设置有直孔,所述直孔呈圆周均匀分布。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:

1、该用于环境艺术设计用装饰瓷砖,通过设置有限位柱和限位孔,在进行两块瓷砖拼接时,我们先将限位柱对准限位孔插入,此时在进行限位条插入到限位槽内就会使两块瓷砖整齐对接,提高工作效率。

2、该用于环境艺术设计用装饰瓷砖,通过设置有防滑凸起和连接块,在进行贴砖时,在防滑凸起的作用下,可以为泥浆提供一个很好的附着力,而连接块位于泥浆内部,这样更进一步提高瓷砖的稳定性。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉理工大学,未经武汉理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202220714824.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top