[实用新型]一种高纯材料处理用真空气氛回转炉

权利要求书

1.一种高纯材料处理用真空气氛回转炉，其特征在于，包括炉体主体组件(1)、除尘组件(2)、高纯硅玻璃管(3)、进料密封构件(4)、出料密封构件(5)，炉体主体组件(1)的底部安装布置在水平地面上，所述的高纯硅玻璃管(3)安装在炉体主体组件(1)上并与炉体主体组件(1)相接触，在炉体主体组件(1)的两侧端部安装设置有进料密封构件(4)及出料密封构件(5)，其中，进料密封构件(4)及出料密封构件(5)扣合在高纯硅玻璃管(3)的两端部位上，在炉体主体组件(1)的一侧安装布置有除尘组件(2)，所述的除尘组件(2)通过连接管道与进料密封构件(4)相连通。

2.根据权利要求1所述的一种高纯材料处理用真空气氛回转炉，其特征在于，所述的炉体主体组件(1)包括，调整地脚(101)、炉体本体(102)及加热管(103)，在炉体本体(102)的底部开设有螺纹孔，调整地脚(101)安装在炉体本体(102)底部的螺纹孔处并与螺纹孔螺纹配合相连，在炉体本体(102)的上部开设有一放置空腔，所述的加热管(103)置于炉体本体(102)上的放置空腔内并与放置空腔内壁相连在一起。

3.根据权利要求1所述的一种高纯材料处理用真空气氛回转炉，其特征在于，所述的除尘组件(2)包括，除尘器(201)、除尘支座(202)、除尘管道(203)及控制阀门，除尘支座(202)底部布置在工作地面上，在除尘支座(202)上安装有除尘器(201)，除尘管道(203)的一侧端部安装在除尘器(201)底部并与除尘器(201)相连通，所述的除尘管道(203)通过控制阀门与进料密封构件(4)相连通。

4.根据权利要求2所述的一种高纯材料处理用真空气氛回转炉，其特征在于，所述的进料密封构件(4)包括，进料承载架(401)、进料密封罩(402)、第一进气管(403)，进料承载架(401)固定安装在炉体本体(102)的右侧端部部位，在进料承载架(401)上安装有密封罩支撑架(406)，进料密封罩(402)安装在密封罩支撑架(406)上，在进料密封罩(402)内设置有密封空腔，第一进气管(403)安装在进料密封罩(402)外侧并与进料密封罩(402)相连通，在进料密封罩(402)的外侧中间处加工有贯穿通孔，送料管(404)插套在进料密封罩(402)上开设的贯穿通孔后进入高纯硅玻璃管(3)内，在进料密封罩(402)的上部安装有连接管座(405)。

5.根据权利要求4所述的一种高纯材料处理用真空气氛回转炉，其特征在于，所述的出料密封构件(5)包括，出料承载架(501)、出料密封罩(502)、第二进气管(503)，出料承载架(501)安装在炉体本体(102)的左侧端部部位，在出料承载架(501)上设置有固定支撑架(504)，出料密封罩(502)安装在固定支撑架(504)上，在出料密封罩(502)内设置有密封空腔，出料密封罩(502)通过密封空腔罩扣在高纯硅玻璃管(3)的出料端，在出料密封罩(502)的下侧安装有出料管(505)，第二进气管(503)安装在出料密封罩(502)的上部并与出料密封罩(502)内的密封空腔相连通。

6.根据权利要求5所述的一种高纯材料处理用真空气氛回转炉，其特征在于，所述的进料密封罩(402)、出料密封罩(502)、送料管(404)及出料管(505)内喷涂有用于隔离防护作用的四氟乙烯，四氟乙烯能够防止物料与进料密封罩(402)、出料密封罩(502)、送料管(404)及出料管(505)接触时发生污染。

7.根据权利要求2所述的一种高纯材料处理用真空气氛回转炉，其特征在于，所述的炉体本体(102)的左侧端部部位安装有降温罩(6)，所述的降温罩(6)套合在高纯硅玻璃管(3)的尾部出料侧，在降温罩(6)的上部安装有用于热风流出的出风口(7)，在降温罩(6)的底部安装有用于冷风流入的进风口(8)，所述的出风口(7)、进风口(8)与降温罩(6)内腔体相连通。