[实用新型]亚大气压化学气相沉积设备的气压控制系统有效
| 申请号: | 202220573923.6 | 申请日: | 2022-03-16 |
| 公开(公告)号: | CN217077787U | 公开(公告)日: | 2022-07-29 |
| 发明(设计)人: | 王磊;江为团;王建上;陈明华 | 申请(专利权)人: | 厦门士兰集科微电子有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/52 | 分类号: | C23C16/52;C23C16/44;C23C16/458;H01L21/205 |
| 代理公司: | 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 | 代理人: | 马陆娟 |
| 地址: | 361026 福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 大气压 化学 沉积 设备 气压 控制系统 | ||
1.一种亚大气压化学气相沉积设备的气压控制系统,其特征在于,包括:
反应腔;
承载台,设置在所述反应腔中,所述承载台承载晶圆;
第一干式真空泵,通过第一管路与所述反应腔相连通,所述第一干式真空泵抽取所述反应腔中的气体;以及
第二干式真空泵,通过第二管路与所述承载台相连通,所述第二干式真空泵抽取所述承载台上的所述晶圆背面的气体,以将所述晶圆吸附于所述承载台上。
2.根据权利要求1所述的气压控制系统,其特征在于,所述气压控制系统还包括:
第一气动阀,设置在所述第二管路上,用于控制所述第二管路的通断。
3.根据权利要求1所述的气压控制系统,其特征在于,所述气压控制系统还包括:
节流阀,设置在所述第一管路上,用于控制所述反应腔中气压的大小。
4.根据权利要求1所述的气压控制系统,其特征在于,所述气压控制系统还包括:
第一气压检测表,与所述反应腔相连接,用于检测所述反应腔中的气压值。
5.根据权利要求1所述的气压控制系统,其特征在于,所述承载台中设置有若干吸附孔,以将所述晶圆吸附固定在所述承载台的表面上。
6.根据权利要求1所述的气压控制系统,其特征在于,所述气压控制系统还包括:
第一隔离阀,设置在所述第一管路上,用于控制所述第一管路的通断。
7.根据权利要求1所述的气压控制系统,其特征在于,所述气压控制系统包括两个所述承载台;
所述第二管路包括:
主管路,所述主管路的第一端与所述第二干式真空泵相连接;
两个子管路,所述子管路的第一端与所述主管路的第二端相连接,不同的所述子管路的第二端与对应的所述承载台相连通。
8.根据权利要求7所述的气压控制系统,其特征在于,所述气压控制系统还包括:
第一子管路气动阀,设置在所述第一子管路上,所述第一子管路气动阀控制所述第一子管路的通断;
第二子管路气动阀,设置在所述第二子管路上,所述第二子管路气动阀控制所述第二子管路的通断。
9.根据权利要求1所述的气压控制系统,其特征在于,所述气压控制系统还包括:
第三管路,所述第三管路的第一端与所述第一管路相连通,所述第三管路的第二端与所述第二管路相连通;
第二气动阀,设置在所述第三管路上,用于控制所述第三管路的通断。
10.根据权利要求9所述的气压控制系统,其特征在于,所述气压控制系统还包括:
第二气压检测表,与所述第一管路相连接,用于检测所述第一管路、所述第二管路中的气压。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





