[实用新型]一种带有羟基清洁的游泳池

说明书

本实用新型公开了一种带有羟基清洁的游泳池，其技术方案是：包括游泳池本体，所述游泳池本体一侧设有支撑架，所述支撑架一侧固定设有储水箱，所述储水箱内部固定设有羟基发生器，所述支撑架一侧设有清洗机构；所述清洗机构包括伸缩管，所述伸缩管固定设于储水箱底部，所述伸缩管一侧固定连接有连接板，所述伸缩管底部设有多个出水孔，所述伸缩管两侧均设有第一支撑板，所述第一支撑板一端与支撑架固定连接，两侧所述第一支撑板一侧均设有第三支撑板，本实用新型的有益效果是：无需大量的人力进行手动清洁，清洁方便快捷，同时能高效的去除游泳池的残留污垢和细菌，避免游泳池水容易被污染。

技术领域

本实用新型涉及游泳池技术领域，具体涉及一种带有羟基清洁的游泳池。

背景技术

游泳池是人们进行游泳运动的专门场所，人们可以在其中活动或进行比赛，多数游泳池建在地面，根据水温可分为一般游泳池和温水游泳池，分室内、室外两种，正式比赛泳池为长50米、宽至少21米、水深1.8米以上；供游泳、跳水和水球综合使用的池，水深1.3～3.5米；设10米跳台的池，水深应为5米，游泳池水温应保持在27～28度，应有过滤和消毒设备，以保持池水清洁。

现有技术存在以下不足：现有的游泳池底清洁装置常常采用人工进行池底清洁，这样的清洁方式过于缓慢，影响泳池的正常使用，且在清洁过程中无法高效的去除游泳池的残留污垢和细菌，导致游泳池水容易被污染。

因此，发明一种带有羟基清洁的游泳池很有必要。

实用新型内容

为此，本实用新型提供一种带有羟基清洁的游泳池，通过带有羟基自由基的清洗机构对游泳池进行清洗，以解决游泳池底清洁装置常常采用人工进行池底清洁，这样的清洁方式过于缓慢，影响泳池的正常使用，且在清洁过程中无法高效的去除游泳池的残留污垢和细菌，导致游泳池水容易被污染的问题。

为了实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种带有羟基清洁的游泳池，包括游泳池本体，所述游泳池本体一侧设有支撑架，所述支撑架一侧固定设有储水箱，所述储水箱内部固定设有羟基发生器，所述支撑架一侧设有清洗机构；

所述清洗机构包括伸缩管，所述伸缩管固定设于储水箱底部，所述伸缩管一侧固定连接有连接板，所述伸缩管底部设有多个出水孔，所述伸缩管两侧均设有第一支撑板，所述第一支撑板一端与支撑架固定连接，两侧所述第一支撑板一侧均设有第三支撑板，两侧所述第三支撑板一侧均设有第二支撑板，两侧所述第二支撑板一端均与连接板固定连接，所述第一支撑板、第三支撑板和第二支撑板底部均固定设有清洁刷。

优选的，所述第二支撑板和第一支撑板一侧均开设有滑槽，所述滑槽一侧设有圆销，所述圆销延伸入滑槽内部，所述圆销一侧固定设有连接臂，两个所述连接臂分别与第三支撑板和第一支撑板通过转轴活动连接。

优选的，所述储水箱顶部固定设有注水管，所述储水箱内部设有水泵，所述水泵一侧设有连接管，所述连接管与伸缩管固定连接。

优选的，所述储水箱一侧固定设有电机，所述电机输出端固定连接有螺纹杆，所述螺纹杆贯穿连接板并与连接板通过螺纹连接。

优选的，所述支撑架一侧固定设有滑块。

优选的，所述电机外部固定设有机壳。

优选的，所述游泳池本体内壁两侧均开设有滑轨，所述螺纹杆和滑块均延伸入滑轨内部。

本实用新型的有益效果是：

本实用新型通过水泵将储水箱内的水通过连接管排入伸缩管中，并从伸缩管底部的出水孔喷出，带有羟基自由基的水和清洁刷对游泳池进行清洁，推动支撑架使支撑架一侧的滑块沿着滑轨移动，便可对游泳池进行来回清洗，无需大量的人力进行手动清洁，清洁方便快捷，同时能高效的去除游泳池的残留污垢和细菌，避免游泳池水容易被污染；

附图说明

图1为本实用新型提供的整体结构示意图；