[实用新型]涂布装置的流体控制结构有效
申请号: | 202220183369.0 | 申请日: | 2022-01-24 |
公开(公告)号: | CN216678871U | 公开(公告)日: | 2022-06-07 |
发明(设计)人: | 陈律名 | 申请(专利权)人: | 邑富股份有限公司 |
主分类号: | B05C5/02 | 分类号: | B05C5/02 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 刘倩兰 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 流体 控制 结构 | ||
本实用新型提供一种涂布装置的流体控制结构,包含:一涂布单元,包括一针头、一顶针和阀体,该阀体开设有一容置空间供容设该针头和该顶针,该针头形成一中空状空间,一端开设一喷嘴;一流体供给单元,连接该涂布单元供给涂布使用的流体;以及一控制单元,连接该流体供给单元可调节供给流体的压力,调节该流体的供应量,该控制单元并连接该涂布单元控制该顶针位移的速度和位置,进行涂布制程的操控。本实用新型的涂布装置的流体控制结构解决了涂布制程于停止涂布流体时,残留压力使得留置在流体的针头出液口或喷嘴口的流体会继续流至涂布面的缺点,能够精确且快速地控制流体供给量,使涂布效果均匀一致。
技术领域
本实用新型涉及一种涂布装置,特别涉及一种涂布装置的流体控制结构。
背景技术
现有技术的涂布设备中,用来控制流体的供给方式,通常使用的是空气脉冲方式,或根据流体材料特性选择的喷射方式、容积计量方式、以及推进器方式等等。而当涂布设备在停止流体供给时,由于残留压力使得在针头供液口处的流体仍会继续流往涂布面,因此,现有技术控制流体供停的技术,存在造成涂布面的涂布区的流体厚度或大小不均匀的缺点。
为解决上述问题,因此有改良流体供停的方式被提出,其中,较佳的改良者的特征在于使用二片陶瓷垫片做为控制流体供停的技术手段,其主要技术内容为在各个陶瓷垫片中心处分别开设有圆孔,通过控制陶瓷垫片的相对位置来控制流体供给和停止。当二片陶瓷垫片的轴心错位(dislocation)时,停止供给流体;当二片陶瓷垫片轴心位在同轴位置(coaxial)时供给流体,达到瞬间开关的控制功能。惟此一改良需另外加设陶瓷垫片控制模块,以致机构设计较为复杂,也有不符经济效益的缺点。
本实用新型有鉴于上述各现有技术的缺点,乃亟思更优异的改良,在经由不断的研究实验后,始成功研发完成本实用新型的涂布装置的流体控制结构。
实用新型内容
为了改良前述现有技术的缺失,达到精确且快速地控制流体供给和停止,提升涂布效果的目的,本实用新型提供了一种涂布装置的流体控制结构。
本实用新型揭露一种涂布装置的流体控制结构,包含:一涂布单元、一流体供给单元以及一控制单元,流体供给单元连接涂布单元以供给涂布使用的流体,通过控制单元连接流体供给单元可调节供给流体的压力,且利用控制单元控制涂布单元进行涂布工程。
其中,流体供给单元包括供液件和液室。
涂布单元包括一针头、一顶针和阀体,阀体开设有一容置空间供容设针头和顶针。针头形成一中空状空间,一端开设有一喷嘴,中空状空间朝喷嘴方向呈渐缩锥度;控制单元控制一传动件带动顶针在阀体的容置空间内上下位移,顶针具有与针头内径相同的渐缩锥度,达到如同开关作用般地控制流体供给和停止。
前述的控制单元可以控制顶针位移的速度和位置,如流速计般地调节流体的供应量,供应量的多少视实际情况调节,或者完全停止供给。
前述的针头的喷嘴形状根据不同的应用场合,可配合变更设计以达到最佳的涂布效果。
前述的顶针配合针头的喷嘴形状,使用不同的锥度。
本实用新型的涂布装置可应用在底部填充、晶圆精密封装、LED(light-emittingdiode,发光二极管)荧光胶高速填充、焊晶(die bond)银胶、锡膏精密涂布、LCD Tuffy(液晶显示器蓝胶)保护胶、遮光胶无接触涂布、触控面板侧喷保护、软板芯片电阻电容保护、以及PUR(聚氨酯)热熔胶细线喷涂等等。
通过本实用新型的涂布装置的流体控制结构,即可在所应用制程上的快速和精准的涂布在指定的位置,不会产生滴漏或垂流的现象,达到更佳的涂布效果。
附图说明
图1为本实用新型的涂布装置的流体控制结构的应用示意图;
图2为本实用新型的涂布控制的示意图;
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