[实用新型]一种硅片表面抛光用清洁装置

说明书

本实用新型涉及一种硅片表面抛光用清洁装置，包括抛光机和抛光盘，所述抛光机的外部设置有调节机构，所述调节机构的外部设置有清洁机构，所述调节机构包括固定安装于抛光机左侧壁上的液压推杆，所述液压推杆的输出轴上活动安装有安装板，所述安装板的顶部固定安装有驱动电机，所述驱动电机的输出端上固定连接有转轴，所述转轴远离驱动电机的一端固定连接有连接杆，所述清洁机构包括活动安装于连接杆外部的清洗刷辊，所述安装板的底部固定安装有分配器，所述分配器的底部固定安装有喷嘴。该硅片表面抛光用清洁装置，通过启动驱动电机带动连接杆进行旋转，使两个清洗刷辊进行滚动并对抛光盘上的抛光布进行覆盖清洗，具备清洗效果好的优点。

技术领域

本实用新型涉及硅片表面抛光技术领域，具体为一种硅片表面抛光用清洁装置。

背景技术

单晶硅和多晶硅的区别是，当熔融的单质硅凝固时，硅原子以金刚石晶格排列成许多晶核，如果这些晶核长成晶面取向相同的晶粒，则形成单晶硅，如果这些晶核长成晶面取向不同的晶粒，则形成多晶硅，多晶硅与单晶硅的差异主要表现在物理性质方面，例如在力学性质和电学性质等方面，多晶硅均不如单晶硅，多晶硅可作为拉制单晶硅的原料，单晶硅可算得上是世界上最纯净的物质了，一般的半导体器件要求硅的纯度六个9以上，大规模集成电路的要求更高，硅的纯度必须达到九个9，人们已经能制造出纯度为十二个9的单晶硅，单晶硅是电子计算机和自动控制系统等现代科学技术中不可缺少的基本材料。

单晶硅在经过线切割加工后需要对切割面进行抛光，现有技术中的抛光机缺乏对于抛光布的清洁装置，抛光布的抛光效果会随着加工次数增加而急剧下降。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种硅片表面抛光用清洁装置，具备方便清洁等优点，解决了抛光布的抛光效果会随着加工次数增加而急剧下降的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种硅片表面抛光用清洁装置，包括抛光机和抛光盘，所述抛光机的外部设置有调节机构，所述调节机构的外部设置有清洁机构，所述调节机构包括固定安装于抛光机左侧壁上的液压推杆，所述液压推杆的输出轴上活动安装有安装板，所述安装板的顶部固定安装有驱动电机，所述驱动电机的输出端上固定连接有转轴，所述转轴远离驱动电机的一端固定连接有连接杆，所述清洁机构包括活动安装于连接杆外部的清洗刷辊，所述安装板的底部固定安装有分配器，所述分配器的底部固定安装有喷嘴。

进一步，所述安装板的顶部固定安装有水箱，所述水箱的右侧壁上固定连接有水管，所述水管的外形呈L形，所述水管远离水箱的一端与分配器固定连接。

进一步，所述连接杆的外部固定连接有支撑杆，所述支撑杆的数量为两个，所述清洗刷辊与支撑杆转动连接。

进一步，所述支撑杆的顶部固定连接有滑块，所述安装板的内部开设有滑槽，所述滑块活动连接于滑槽的内部，所述滑槽的仰视外形呈环形。

进一步，所述转轴贯穿安装板的内部并延伸至分配器的底部，所述转轴与连接杆的组合外形呈T形，所述清洗刷辊位于抛光盘的正上方。

进一步，所述抛光盘活动安装于抛光机的顶部，所述喷嘴位于清洗刷辊的正上方，所述转轴与分配器活动连接。

与现有技术相比，本申请的技术方案具备以下有益效果：

1、该硅片表面抛光用清洁装置，通过启动驱动电机带动连接杆进行旋转，使两个清洗刷辊进行滚动并对抛光盘上的抛光布进行覆盖清洗，具备清洗效果好的优点。

2、该硅片表面抛光用清洁装置，因为安装板与液压推杆的输出轴转动连接，这样通过人工转动安装板使其移动到一旁，避免影响工作空间，具备方便快捷的优点。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型俯视结构示意图。