[实用新型]一种具有磁控溅射组件的离子注入设备

权利要求书

1.一种具有磁控溅射组件的离子注入设备，其特征在于，包括设有反应腔室的磁控溅射离子发生腔室壳体（2）、金属靶材（3）、与金属靶材电连接的溅射电源，所述反应腔室内设有溅射区（21）、磁场导向区与离子引出组件（4），所述离子引出组件（4）对立一侧设有电子发生装置（1），所述金属靶材（3）设有两个，所述金属靶材（3）固定在所述溅射区（21）中的磁控溅射离子发生腔室壳体（2）的两侧内壁上且两个相对设置，所述磁控溅射离子发生腔室壳体（2）的两侧外壁上对应金属靶材设有磁控线圈（7），所述磁场导向区内设有用于对金属靶材（3）溅射形成的离子导引使其从离子引出组件（4）离开反应腔室的磁场；

所述反应腔室靠近离子引出组件（4）一端依次设有质量分析装置（5）、加速管（6）与工艺室，所述工艺室有扫描盘。

2.根据权利要求1所述的一种具有磁控溅射组件的离子注入设备，其特征在于，在所述溅射区的磁控溅射离子发生腔室壳体（2）的内壁和/或外壁上固定有两个相对设置的用于形成封闭磁场的第一线圈（71）；在所述磁场导向区的磁控溅射离子发生腔室壳体（2）的内壁和/或外壁上固定有用于形成对离子形成加速离子离开反应腔室的磁场的第二线圈（72）。

3.根据权利要求1所述的一种具有磁控溅射组件的离子注入设备，其特征在于，所述电子发生装置包括灯丝（101）、交流灯丝加热电源与进气管（102），所述交流灯丝加热电源与灯丝（101）电连接用于提供电能产生电子，所述进气管（102）用于通入气体与交流灯丝（101）产生的电子发生电离产生带正电的气体离子。

4.根据权利要求1所述的一种具有磁控溅射组件的离子注入设备，其特征在于，所述加速管（6）由多组被介质隔离的电极组成，电极上的电压依次累加，用于加速离子。

5.根据权利要求1所述的一种具有磁控溅射组件的离子注入设备，其特征在于，所述质量分析装置（5）为磁分析器用于将所需要的离子从混合的离子束中分离出来。

6.根据权利要求1所述的一种具有磁控溅射组件的离子注入设备，其特征在于，所述离子引出组件（4）为负极吸出用于形成正离子组成的离子束。