[发明专利]一种可穿戴的可见和红外双波段隐身材料及其制备方法

权利要求书

1.一种可穿戴的可见和红外双波段隐身材料的制备方法，其特征在于：包括以下步骤

以双通多孔材料为基底，通过电子束蒸镀在基底材料上蒸镀金颗粒形成基底材料与金的复合器件；所述基底上设置有若干平行分布的通孔，通孔孔径为80～200nm，所述通孔通向基底材料的第一侧面，电子束蒸镀时，金颗粒仅向所述第一侧面喷射，金颗粒在第一侧面及通孔内壁沉积；

将形成的复合器件置于反应液中反应，使基底材料在反应液中溶解，留下金结构，所述金结构包括沉积在第一侧面的金膜和沉积在通孔内壁的金柱，所述金柱在金膜上阵列分布；

在所述金结构设置所述金柱的一侧沉积高温耐受金属氧化物，沉积厚度为纳米级尺寸。

2.根据权利要求1所述的可穿戴的可见和红外双波段隐身材料的制备方法，其特征在于：所述基底为双通AAO模板，反应溶液为NaOH溶液，HF溶液或H₃PO₄溶液。

3.根据权利要求1所述的可穿戴的可见和红外双波段隐身材料的制备方法，其特征在于：电子束蒸镀时所述金颗粒的沉积速率为1～8a/s。

4.根据权利要求1所述的可穿戴的可见和红外双波段隐身材料的制备方法，其特征在于：沉积在第一侧面的金膜厚度为200-500nm。

5.根据权利要求1所述的可穿戴的可见和红外双波段隐身材料的制备方法，其特征在于：沉积在通孔内壁的金柱高度为250～350nm。

6.根据权利要求1所述的可穿戴的可见和红外双波段隐身材料的制备方法，其特征在于：所述高温耐受金属氧化物为SnO₂，沉积厚度为15nm内，沉积后形成SnO₂致密结构层。

7.根据权利要求6所述的可穿戴的可见和红外双波段隐身材料的制备方法，其特征在于：所述SnO₂采用原子层沉积。

8.根据权利要求1所述的可穿戴的可见和红外双波段隐身材料的制备方法，其特征在于：复合器件置于反应液中反应温度为60℃。

9.一种可穿戴的可见和红外双波段隐身材料，其特征在于：包括金膜和置于金膜一侧的金柱，所述金柱以阵列结构分布在金膜一侧，所述金柱为金属颗粒堆积形成的中空微柱，光线由金柱侧入射，材料在可见光波段高吸收，在中红外波段低发射。

10.根据权利要求9所述的可穿戴的可见和红外双波段隐身材料，其特征在于：

通过权利要求1-8任一项所述的可穿戴的可见和红外双波段隐身材料的制备方法制得。

11.根据权利要求9所述的可穿戴的可见和红外双波段隐身材料，其特征在于：

金膜和金柱的总厚度为纳米级，所述可穿戴的可见和红外双波段隐身材料在可见波段的吸收率高于90％，在红外波段的发射率低于5％。