[发明专利]一种耐火元素掺杂的耐磨梯度HfMSiCN陶瓷层及其制备方法在审
| 申请号: | 202211740550.8 | 申请日: | 2022-12-30 |
| 公开(公告)号: | CN116121700A | 公开(公告)日: | 2023-05-16 |
| 发明(设计)人: | 梁文萍;尹孟娟;缪强;于海洋;孙媛媛;徐健晏;贾飞龙 | 申请(专利权)人: | 南京航空航天大学;南京航空航天大学无锡研究院 |
| 主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;C23C14/34 |
| 代理公司: | 江苏圣典律师事务所 32237 | 代理人: | 周宁 |
| 地址: | 214188 江苏省无*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 耐火 元素 掺杂 耐磨 梯度 hfmsicn 陶瓷 及其 制备 方法 | ||
1.一种耐火元素掺杂的耐磨梯度HfMSiCN陶瓷层,其特征在于,所述陶瓷层表层为HfMSiCN沉积层,里层为与基体相连的扩散层,所述扩散层与基体之间互扩散;所述扩散层中Hf、M、Si、C、N元素含量由表及里逐渐降低;所述M为耐火掺杂元素。
2.根据权利要求1所述的耐火元素掺杂的耐磨梯度HfMSiCN陶瓷层,其特征在于,所述M为Ta、Zr、Nb或Ti。
3.根据权利要求1所述的耐火元素掺杂的耐磨梯度HfMSiCN陶瓷层,其特征在于,所述沉积层厚度为10-20μm;所述扩散层厚度为3-10μm。
4.一种耐火元素掺杂的耐磨梯度HfMSiCN陶瓷层的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤1:按要求将钛合金基体加工成合适尺寸,打磨抛光至镜面,清洗吹干备用;
步骤2:去除双层辉光等离子炉内和靶材表层杂质和氧化膜,将处理后的靶材和基体放入双层辉光等离子炉,调节靶基距,以基体为阴极,以靶材为源极,Ar作为工作气体,N2作为反应气体;
步骤3:将双层辉光等离子炉内抽真空后,持续通入氩气进行清洗;
步骤4:调节双层辉光等离子炉体内的气压至25Pa;起辉对双层辉光等离子炉内进行清洗和预热;
步骤5:炉内气压控制在25Pa,源极电压为800-900V,工件电压为400-450V,通入反应氮气,通过变换Hf(M)SiC格栅状靶材中M种类及含量来制备Hf(M)SiCN陶瓷层,保温4-7h;
步骤6:保温结束后,冷却至室温,得到表面制备有Hf(M)SiCN梯度陶瓷层的Ti60合金。
5.根据权利要求4所述的耐火元素掺杂的耐磨梯度HfMSiCN陶瓷层的制备方法,其特征在于,步骤1中使用80-1000目SiC防水砂纸对基体进行打磨,之后放至抛光机上打磨至成镜面。
6.根据权利要求4所述的耐火元素掺杂的耐磨梯度HfMSiCN陶瓷层的制备方法,其特征在于,步骤2中所述靶基距为15-25mm,靶材从左至右按照Hf/Si/M/C等距间隔排列。
7.根据权利要求4或6所述的耐火元素掺杂的耐磨梯度HfMSiCN陶瓷层的制备方法,其特征在于,步骤2中靶材为格栅状高纯Hf、Si、M、C。
8.根据权利要求4所述的耐火元素掺杂的耐磨梯度HfMSiCN陶瓷层的制备方法,其特征在于,步骤4中起辉时调节源级电压至850V,工件电压为420V。
9.根据权利要求4所述的耐火元素掺杂的耐磨梯度HfMSiCN陶瓷层的制备方法,其特征在于,步骤5中调节氩气和氮气的流量比为1:3。
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