[发明专利]一种SPAD器件及其制作方法

权利要求书

1.一种SPAD器件制作方法，其特征在于，包括：

对衬底进行N型掺杂，进行P型掺杂，得到PN结；

在接收入射光的衬底表面沉积钝化层；

在所述钝化层的表面沉积透光材料层；

在所述透光材料层的表面形成纵截面为矩形的光刻胶层；

对所述纵截面为矩形的光刻胶层进行回流，使所述纵截面为矩形的光刻胶层中的光刻胶块融化形成纵截面为凸起曲面的光刻胶层；

以所述凸起曲面的光刻胶层作为掩膜，刻蚀所述透光材料层，形成微透镜，得到SPAD器件。

2.如权利要求1所述的SPAD器件制作方法，其特征在于，所述透光材料层为单层结构。

3.如权利要求1所述的SPAD器件制作方法，其特征在于，所述透光材料层包括至少两层不同材料的微透镜单元层。

4.如权利要求3所述的SPAD器件制作方法，其特征在于，不同所述微透镜单元层的材料折射率，在入射光的方向上逐渐增大。

5.如权利要求3所述的SPAD器件制作方法，其特征在于，所述透光材料层包括三层不同材料的微透镜单元层。

6.如权利要求5所述的SPAD器件制作方法，其特征在于，在靠近所述钝化层的方向上，所述透光材料层包括层叠的二氧化硅单元层、氮氧化硅单元层和氮化硅单元层。

7.如权利要求2所述的SPAD器件制作方法，其特征在于，所述透光材料层为二氧化硅层、氮化硅层、氮氧化硅层中的任一种。

8.如权利要求1所述的SPAD器件制作方法，其特征在于，所述透光材料层的厚度大于所述微透镜曲面最高处距离所述钝化层的高度。

9.如权利要求1至8任一项所述的SPAD器件制作方法，其特征在于，刻蚀所述透光材料层，形成微透镜之后，还包括：

通过刻蚀所述微透镜的外表面，以减薄所述微透镜的厚度。

10.一种SPAD器件，其特征在于，所述SPAD器件采用如权利要求1至9任一项所述的SPAD器件制作方法制得。