[发明专利]片状石墨分散液及其制备方法、应用在审
申请号: | 202211710184.1 | 申请日: | 2022-12-29 |
公开(公告)号: | CN116356392A | 公开(公告)日: | 2023-06-30 |
发明(设计)人: | 王建兴;谢冬冬;方波;董邦群;白俊;郝浪浪 | 申请(专利权)人: | 广东一纳科技有限公司 |
主分类号: | C25D5/34 | 分类号: | C25D5/34;C25D7/00;C25D3/38;H05K3/42 |
代理公司: | 惠州知侬专利代理事务所(普通合伙) 44694 | 代理人: | 刘羽 |
地址: | 516000 广东省惠州市仲*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 片状 石墨 分散 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种片状石墨分散液的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
获取片状石墨分散液的如下各组分:天然石墨、表面活性剂、分散剂和增稠剂;
对所述天然石墨进行酸处理,得到可膨胀石墨;
将所述表面活性剂和分散剂加入至所述可膨胀石墨中进行冷却研磨操作,得到研磨物,其中,所述研磨物中的所述可膨胀石墨的粒径D50为0.5μm~0.8μm;
将所述增稠剂加入至研磨物中进行混合操作,得到片状石墨分散液。
2.根据权利要求1所述的片状石墨分散液的制备方法,其特征在于,所述将所述表面活性剂和分散剂加入至所述可膨胀石墨中进行冷却研磨操作,具体包括如下步骤:
将所述表面活性剂、分散剂和可膨胀石墨加入分散介质中进行润湿搅拌操作,得到润湿混合物;
将所述润湿混合物加入至破碎剥离器中进行低温研磨处理。
3.根据权利要求2所述的片状石墨分散液的制备方法,其特征在于,所述分散介质为去离子水;或,
所述分散介质包括去离子水和N-甲基吡咯烷酮。
4.根据权利要求2所述的片状石墨分散液的制备方法,其特征在于,将所述润湿混合物加入至破碎剥离器中进行低温研磨处理的温度为2℃~8℃。
5.根据权利要求1所述的片状石墨分散液的制备方法,其特征在于,所述表面活性剂为十二烷基硫酸钠和/或烷基酚聚氧乙烯醚。
6.根据权利要求1所述的片状石墨分散液的制备方法,其特征在于,所述分散剂为聚乙烯吡络烷酮。
7.根据权利要求1所述的片状石墨分散液的制备方法,其特征在于,所述增稠剂为羧甲基纤维素钠或乙烯-丙烯酸共聚物。
8.一种片状石墨分散液,其特征在于,通过权利要求1至7中任一项所述的片状石墨分散液的制备方法制备得到,所述片状石墨分散液还包括消泡剂和pH调节剂。
9.根据权利要求8所述的片状石墨分散液,其特征在于,所述消泡剂为硅油乳膏;及/或,
所述pH调节剂为碳酸钠。
10.一种片状石墨分散液的应用,其特征在于,将权利要求9所述的片状石墨分散液用于PCB板的孔金属化。
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