[发明专利]一种高分子改性的高强度抗撕裂遮阳篷布及制备方法

权利要求书

1.一种高分子改性的高强度抗撕裂遮阳篷布，其特征在于，所述篷布由甲经和乙经、甲纬和乙纬编织而成，所述甲经和乙经、甲纬和乙纬在分别在按照1:1至3:1的比例配丝，所述甲经和甲纬为高强涤纶丝、高强pe丝和尼龙丝中的一种，所述乙经和乙纬为高分子改性纤维；

所述篷布满足：在撕裂角大于90°的范围内，乙经先于甲经断裂或乙纬先于甲纬断裂；

若撕裂发生在沿经丝方向，乙经受拉力断裂后，甲纬在断裂处解除缠绕，断裂的乙经两侧的甲经相互靠拢，发生远离撕裂口的滑移；

若撕裂发生在沿纬丝方向，乙纬受拉力断裂后，甲经断裂处解除缠绕，断裂的乙纬两侧的甲纬相互靠拢，发生远离撕裂口的滑移。

2.根据权利要求1所述的一种高分子改性的高强度抗撕裂遮阳篷布，其特征在于：所述甲经和甲纬具有相同的弯曲断裂强度P1，所述乙经和乙纬具有相同的拉伸断裂强度P2，且P1≥1.75P2。

3. 根据权利要求2所述的一种高分子改性的高强度抗撕裂遮阳篷布，其特征在于：所述高分子改性纤维具有以下重量组分：高密度聚乙烯70-85份，聚丙烯酸酯10-20份，改性片状二氧化硅粉末1.5-3.5份，葡萄糖酸钠0.02-0.08份，丙烯酸酯橡胶 5-9份，三乙醇胺2-8份，三氧化二硼1.1-3.2份，增塑剂1.8-5.0份；上述组份混合均匀，加热至软化温度125～135℃，经密炼和挤出得到所述高分子改性纤维。

4.根据权利要求3所述的一种高分子改性的高强度抗撕裂遮阳篷布，其特征在于：所述改性片状二氧化硅粉末由片状二氧化硅粉末经硅烷偶联剂法或醇改性法进行表面改性制备；

所述片状二氧化硅粉末按照以下方法制备：

步骤一、将含氟硅烷加入原硅酸四乙酯的醇溶液，经酸催化剂作用得到氟改性硅溶胶；

步骤二、将氟改性硅溶胶涂覆至塑料薄膜；

步骤三、水浴脱离，经烘干和粉碎完成改性片状二氧化硅粉末的制备。

5.一种高分子改性的高强度抗撕裂遮阳篷布的制备方法，用于制备如权利要求1-4任一项所述的篷布，其特征在于，包括以下步骤：

S1：制备乙经、乙纬：所述乙经、乙纬为高分子改性纤维，所述高分子改性纤维具有以下重量组分：高密度聚乙烯70-85份，聚丙烯酸酯10-20份，改性片状二氧化硅粉末1.5-3.5份，葡萄糖酸钠0.02-0.08份，丙烯酸酯橡胶 5-9份，三乙醇胺2-8份，三氧化二硼1.1-3.2份，增塑剂1.8-5.0份；上述组份混合均匀，加热至软化温度125～135℃，经密炼和挤出得到所述高分子改性纤维；

S2：配丝：甲经和甲纬为高强涤纶丝、高强pe丝和尼龙丝中的一种，甲经和乙经按照1:1至3:1的比例配丝，甲纬和乙纬分别在按照1:1至3:1的比例配丝；

S3：织造：在织机上完成篷布的织造；

S4：涂层：在织造完成的篷布双面涂刷阻燃涂料，每面涂2遍共计4遍，每涂一遍后在烘干机中进行烘干。

6.根据权利要求5所述的一种高分子改性的高强度抗撕裂遮阳篷布的制备方法，其特征在于：

所述改性片状二氧化硅粉末由片状二氧化硅粉末经硅烷偶联剂法或醇改性法进行表面改性制备；

所述片状二氧化硅粉末按照以下方法制备：

步骤一、将含氟硅烷加入原硅酸四乙酯的醇溶液，经酸催化剂作用得到氟改性硅溶胶；

步骤二、将氟改性硅溶胶涂覆至塑料薄膜；

步骤三、水浴脱离，经烘干和粉碎完成改性片状二氧化硅粉末的制备。

7. 根据权利要求6所述的一种高分子改性的高强度抗撕裂遮阳篷布的制备方法，其特征在于：所述阻燃涂料的成分，以环氧树脂100份重量计为：环氧树脂 100份，邻苯二甲酸二丁脂10-15份，乙醇 10份，三氧化二锑 5份，偶联剂8-13份，抗氧剂1-2份，胺类固化剂10-20份。

8.根据权利要求7所述的一种高分子改性的高强度抗撕裂遮阳篷布的制备方法，其特征在于：所述织机为喷水织机。