[发明专利]应用于外延生长的托盘和外延生长反应室

权利要求书

1.一种应用于外延生长的托盘，其特征在于，所述托盘包括分立的第一组成部和第二组成部；

所述第一组成部的上表面设有用于放置晶片的多个晶片承载区，所述第一组成部的中心区域设有贯穿的凹进部，所述中心区域为非晶片承载区，所述凹进部与所述托盘上表面侧的空间连通；

所述第一组成部下表面和/或所述第二组成部上表面沿所述托盘的径向方向设有一个或多个沟槽，所述沟槽与所述托盘外侧面的空间及所述凹进部连通；

所述第一组成部和所述第二组成部由上至下依次堆叠组合后在所述托盘内部形成导气通道，用于导通所述托盘上表面侧的空间和所述托盘外侧面的空间。

2.根据权利要求1所述的托盘，其特征在于，所述凹进部为一个贯穿孔，所述贯穿孔的中心轴线与所述托盘的中心轴线重合，所述沟槽与所述贯穿孔连通。

3.根据权利要求2所述的托盘，其特征在于，所述贯穿孔内设有第一导气件，所述第一导气件的外径小于所述贯穿孔的外径，所述贯穿孔与所述第一导气件之间形成环形通道，所述环形通道与所述托盘上表面侧的空间及所述沟槽连通。

4.根据权利要求3所述的托盘，其特征在于，所述第一导气件的顶端与所述托盘上表面齐平，或者所述第一导气件的顶端凸出于所述托盘上表面。

5.根据权利要求4所述的托盘，其特征在于，所述第一导气件包括柱形部和锥形部，所述柱形部与所述锥形部之间的交界面与所述托盘上表面齐平或低于所述托盘的上表面。

6.根据权利要求5所述的托盘，其特征在于，所述柱形部与所述锥形部为一体成型部件或为分立部件。

7.根据权利要求4所述的托盘，其特征在于，在沿所述托盘下表面指向所述托盘上表面的方向上，所述第一导气件的尺寸逐渐减小。

8.根据权利要求3所述的托盘，其特征在于，所述第一导气件为独立的部件，或者所述第一导气件为由所述第二组成部的中心区域沿朝向所述第一组成部的方向设置的凸起部。

9.根据权利要求1所述的托盘，其特征在于，所述凹进部为一个环形槽，所述环形槽的中心轴线与所述托盘的中心轴线重合，所述沟槽与所述环形槽连通。

10.根据权利要求9所述的托盘，其特征在于，所述第一组成部上被所述环形槽围绕的区域的实体部分上设有第二导气件，在沿所述托盘下表面指向所述托盘上表面的方向上，所述第二导气件的尺寸逐渐减小。

11.根据权利要求1所述的托盘，其特征在于，所述凹进部为多个管状通道，所述管状通道的数量与所述沟槽的数量一致，所述管状通道与所述沟槽一一对应连通。

12.根据权利要求11所述的托盘，其特征在于，各个所述管状通道分别和与该所述管状通道对应的沟槽位于同一纵向剖面内。

13.根据权利要求11所述的托盘，其特征在于，所述管状通道围绕所述托盘的中心轴线均匀分布，所述托盘上被所述管状通道围绕的区域的实体部分上设有第三导气件，在沿所述托盘下表面指向所述托盘上表面的方向上，所述第三导气件的尺寸逐渐减小。

14.根据权利要求1所述的托盘，其特征在于，在沿所述托盘的中心至所述托盘的外侧的方向上，所述沟槽上各个位置距离所述托盘上表面的距离逐渐增加。

15.根据权利要求1所述的托盘，其特征在于，所述沟槽为弧状通道，所述弧状通道的排布方向与所述托盘在外延生长过程中的旋转方向相反。

16.根据权利要求1所述的托盘，其特征在于，所述多个晶片承载区在所述第一组成部的上表面上圆周均匀设置，各个所述晶片承载区内设有至少一个用于放置晶片的容置槽。