[发明专利]一种缺陷态硒化铂材料及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 202211614177.1 申请日: 2022-12-15
公开(公告)号: CN115786961A 公开(公告)日: 2023-03-14
发明(设计)人: 高峻峰;常远;赵纪军;候军刚;翟潘龙;杨丰兆 申请(专利权)人: 大连理工大学
主分类号: C25B11/075 分类号: C25B11/075;C25B1/04
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 王苗苗
地址: 116024 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 缺陷 态硒化铂 材料 及其 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种缺陷态硒化铂材料的制备方法,包括以下步骤:

将铂箔片进行硒化处理,得到硒化铂材料;

将所述硒化铂材料进行等离子体刻蚀处理,得到缺陷态硒化铂材料。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述铂箔片在进行硒化处理前,还包括预处理;所述预处理包括依次进行的酸洗、乙醇洗、水洗和干燥。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述硒化处理包括:将铂箔片置于管式炉的上游,将硒粉置于管式炉的下游,进行化学气相沉积。

4.根据权利要求1或3所述的制备方法,其特征在于,所述硒化处理的温度为400~600℃;所述硒化处理的时间为1~3h。

5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,由室温升温至所述硒化处理的温度的升温速率为2~8℃/min。

6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述等离子体刻蚀处理在等离子体清洗机中进行。

7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述等离子体刻蚀处理在氩气气氛中进行。

8.根据权利要求1或7所述的制备方法,其特征在于,所述等离子体刻蚀处理的功率为50~150W;所述等离子体刻蚀处理的时间为5~20min。

9.权利要求1~8任一项所述制备方法制备得到的缺陷态硒化铂材料。

10.权利要求9所述缺陷态硒化铂材料在电催化水裂解中的应用。

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