[发明专利]一种陶瓷板和引线框架共晶方法在审
| 申请号: | 202211572249.0 | 申请日: | 2022-12-08 |
| 公开(公告)号: | CN115775739A | 公开(公告)日: | 2023-03-10 |
| 发明(设计)人: | 李昱兵;张德春;刘运中;张镜华;郝知行;杨蜀湘;王宇 | 申请(专利权)人: | 四川奥库科技有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48;H01L23/498;H01L23/15 |
| 代理公司: | 四川省成都市天策商标专利事务所(有限合伙) 51213 | 代理人: | 胡慧东 |
| 地址: | 621000 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 陶瓷 引线 框架 方法 | ||
1.一种陶瓷板和引线框架共晶方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤1,对引线框架做部分处理,做出符合引脚要求和贴片要求的引线框架图案,根据图案对引线框架进行加工;
步骤2,为保障引脚的稳定性和可靠性,对引脚做处理,给引脚留出足够的形变空间,并考虑热胀冷缩带来的余量空间,避免因膨胀或缩小带来的应力导致结构失效;或在大电流引脚上加工孔,便于大电流接触;
步骤3,选择合适的陶瓷板作为中间材料,合适的陶瓷板提高结构强度,并且能够抑制金属-陶瓷-金属复合体的膨胀,使DBM具有近似陶瓷的热膨胀系数;
步骤4,在承载治具上放置金属板与陶瓷板;将选定的陶瓷板放置于金属板上,再将冲压定型后的引线框架放置于陶瓷板上方指定位置,并且用专用治具固定位置,且给该复合结构适当的正压力;
步骤5,将固定好的复合结构送至高温炉中发生共晶反应,得到底层是金属,中间层是陶瓷,最上层是引线框架;
步骤6,根据实际需要将DBM中的引线框架蚀刻出需要的电路,若如果引线框架已经预先制作好了全部线路,则可以省去步骤6。
2.如权利要求1所述的一种陶瓷板和引线框架共晶方法,其特征在于,所述引线框架的引脚出脚方式包括单侧出脚、2侧出脚、3侧出脚、4侧出脚、多侧出脚、任意侧出脚。
3.如权利要求1所述的一种陶瓷板和引线框架共晶方法,其特征在于,所述陶瓷板形状、引线框架形状、金属板形状包括规则多边形、不规则多边形、圆形、椭圆、不规则曲边形状。
4.如权利要求1所述的一种陶瓷板和引线框架共晶方法,其特征在于,所述引线框架材质为任意金属或合金;引线框架结构为平面框架,或非平面框架。
5.如权利要求1所述的一种陶瓷板和引线框架共晶方法,其特征在于,所述引线框架厚度为0.3mm、0.35mm、0.4mm、0.45mm、0.5mm、0.55mm、0.6mm,或0.01~5mm。
6.如权利要求1所述的一种陶瓷板和引线框架共晶方法,其特征在于,所述陶瓷板包括氧化铝、氮化铝、氮化硅、高强度氮化铝、氧化锆。
7.如权利要求1所述的一种陶瓷板和引线框架共晶方法,其特征在于,所述粘合方法采用高温下共晶的方法,若用铜板和铜引线框架,那么就是在1065~1083℃的条件下Cu与氧化铝或氮化铝间的共晶反应。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





