[发明专利]液体调料下料装置的自清洁系统与自清洁方法在审
申请号: | 202211534108.X | 申请日: | 2022-12-01 |
公开(公告)号: | CN116099799A | 公开(公告)日: | 2023-05-12 |
发明(设计)人: | 池忠煌;邱君武;杨乐 | 申请(专利权)人: | 宁波方太厨具有限公司 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;A47J47/00;A47J47/01;B08B3/10;B08B13/00 |
代理公司: | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人: | 何桥云;蔡亦皓 |
地址: | 315336 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液体 调料 装置 清洁 系统 方法 | ||
1.一种液体调料下料装置的自清洁系统,所述液体调料下料装置包括调料瓶、连通所述调料瓶与外界的液体流路以及连通所述调料瓶的出液装置,所述出液装置用于控制所述调料瓶中的调料沿液体流路流出,其特征在于:所述自清洁系统包括设于所述调料瓶中的称量装置以及控制装置,所述控制装置能够根据所述称量装置所测得的数据计算调料瓶中调料的累计用量,并在累计用量达预设值后执行清洁操作,所述清洁操作包括控制出液装置将置于所述调料瓶中的清洁液自液体流路流出以清洁所述液体流路。
2.如权利要求1所述的液体调料下料装置的自清洁系统,其特征在于:所述累计用量的预设值为所述调料瓶标定容量的N倍,其中,N为自然数,所述调料瓶标定容量为所述调料瓶中的液体液面处于上刻度线时所述调料瓶中的液体容量,或者,所述调料瓶标定容量为所述调料瓶中的液体液面分别处于上刻度线和下刻度线时的容量差,所述下刻度线略高于液体流路进口。
3.如权利要求2所述的液体调料下料装置的自清洁系统,其特征在于:所述累计用量是根据调料用完次数得到的,所述控制装置能够在调料用完次数达到自然数N时执行清洁操作,其中,所述调料用完次数对应所述调料瓶中的调料自液面处于上刻度线下降至所述称量装置测得调料瓶中调料量为零的次数,或者,所述调料用完次数为所述称量装置测得调料用量达调料瓶标定容量的次数,其中,所述调料瓶标定容量为所述调料瓶中的液体液面分别处于上刻度线和下刻度线时的容量差。
4.如权利要求1所述的液体调料下料装置的自清洁系统,其特征在于:所述控制装置能够在所述称量装置测得所述调料瓶内调料量为零时给出加料提示,或者,所述控制装置能够在所述称量装置测得调料用量达调料瓶标定容量时给出加料提示,其中,所述调料瓶标定容量为所述调料瓶中的液体液面分别处于上刻度线和下刻度线时的容量差,所述下刻度线略高于所述液体流路的进口。
5.如权利要求1所述的液体调料下料装置的自清洁系统,其特征在于:所述控制装置还能够在执行清洁操作完毕后将所述累计用量清零。
6.如权利要求1所述的液体调料下料装置的自清洁系统,其特征在于:所述调料瓶为封闭腔体,所述出液装置为连通所述调料瓶的气泵。
7.如权利要求6所述的液体调料下料装置的自清洁系统,其特征在于:所述清洁操作包括控制出液装置将置于所述调料瓶中的清洁液以预设的流量与流速自液体流路流出以清洁所述液体流路,其中,所述清洁液的流量与流速是通过所述控制装置控制所述气泵以预设参数运行得到的。
8.一种液体调料下料装置的自清洁方法,适用于如权利要求1至7中任意一项所述的液体调料下料装置,其特征在于,包括以下步骤:
S10:往所述调料瓶中加注调料至预设刻度线;
S20:记录调料的累计用量直至所述累计用量达到预设值;
S30:往所述调料瓶中注入清洁液,所述出液装置驱动所述清洁液沿液体流路流出以清洁所述液体流路。
9.如权利要求8所述的液体调料下料装置的自清洁方法,其特征在于:累计用量的预设值为所述调料瓶标定容量的N倍,其中,N为自然数,所述调料瓶标定容量为所述调料瓶中的液体液面处于上刻度线时所述调料瓶中的液体容量,记录调料的累计用量直至所述累计用量达到预设值的步骤包括:
S21:当称量装置测到调料瓶中调料量为零时,累加一次调料用完次数,并再次执行步骤S10,直至累计的调料用完次数达到N。
10.如权利要求8所述的液体调料下料装置的自清洁方法,其特征在于:所述累计用量的预设值为所述调料瓶标定容量的N倍,其中,N为自然数,所述调料瓶标定容量为所述调料瓶中的液体液面分别处于上刻度线和下刻度线时的容量差,所述刻度线略高于所述液体流路的进口,记录调料的累计用量直至所述累计用量达到预设值的步骤包括:
S22:当称量装置测到调料用量达调料瓶标定容量时,累加一次调料用完次数,并再次执行步骤S10,直至累计的调料用完次数达到N。
11.如权利要求8所述的液体调料下料装置的自清洁方法,其特征在于,还包括以下步骤:
S40:将所述累计用量清零,所述累计用量包括累计的调料用完次数。
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