[发明专利]一种具有密封结构的极耳及其制备方法

权利要求书

1.一种具有密封结构的极耳，其特征在于：包括主体、密封部以及牙型结构，密封部设置于主体的一端，牙型结构围设于密封部，主体、密封部与牙型结构一体成型，牙型结构经蚀刻成型。

2.根据权利要求1所述的具有密封结构的极耳，其特征在于：所述密封部自连接主体的一端向另一端宽度逐渐减小，牙型结构包括多个沿着密封部长度方向依次设置的啮齿部，多个啮齿部自靠近主体的一端向另一端厚度逐渐增加。

3.根据权利要求2所述的具有密封结构的极耳，其特征在于：所述密封部的截面形状为梯形，密封部的锥度为0.02-0.05。

4.根据权利要求2所述的具有密封结构的极耳，其特征在于：所述啮齿部的数量为5-10个，位于最下方的啮齿部与密封部底部之间的距离为0.2-2mm。

5.一种具有密封结构的极耳制备方法，其特征在于：包括

A.对原料通过冲压或线切割的方式制得片状的金属极耳；

B.对极耳进行前处理；

C.对极耳进行涂布以及曝光显影处理；

D.对极耳进行蚀刻处理，以形成牙型结构的模胚；

E.对经蚀刻处理的极耳进行清洗以去除极耳表面的金属氧化膜；

F.对清洗后的极耳进行过蚀刻处理以使得模胚变为密封结构；

G.对经过蚀刻处理后的极耳进行清洗以去除极耳表面的感光膜层。

6.根据权利要求5所述的具有密封结构的极耳制备方法，其特征在于：步骤D具体包括

D1.把极耳放入蚀刻机中；

D2.调整蚀刻机的参数，使得蚀刻机在压力为24Pa、功率100W、蚀刻速率为150nm/min的条件下工作；

D3.蚀刻完成，把极耳自蚀刻机中取出并执行步骤E。

7.根据权利要求6所述的具有密封结构的极耳制备方法，其特征在于：在步骤D2中，蚀刻机所喷出的气体离子为BCl₃和Cl₂，其中BCl₃的气体离子流量为30sccm，Cl₂的气体离子流量为10sccm。

8.根据权利要求5所述的具有密封结构的极耳制备方法，其特征在于：在步骤F中，所述过蚀刻动作采用离子束轰击模胚的方式实现。

9.根据权利要求5所述的具有密封结构的极耳制备方法，其特征在于：步骤C具体包括

C1.在极耳表面涂布一层均匀的感光膜层，所述感光膜层的单边厚度为0.02mm；

C2.在极耳表面待蚀刻的位置采用菲林片进行遮盖，然后使用紫外线对感光膜层进行曝光处理，以使得未被菲林片遮盖部分的感光膜层形成不溶于稀碱溶液的保护层；

C3.采用稀碱溶液对极耳进行显影处理以溶解掉在步骤C2中被菲林片遮盖的感光膜层，从而得到需蚀刻的图案；

C4.烘干极耳。

10.根据权利要求9所述的具有密封结构的极耳制备方法，其特征在于：在步骤C3中，所述稀碱溶液为碳酸钠水溶液，稀碱溶液的浓度为0.5％，PH值为10；显影动作于温度为40℃，压力为3Kg/cm²的环境下进行。