[发明专利]半导体12寸20nm以下制程研磨液供应系统及方法

说明书

本发明涉及半导体12寸20nm以下制程研磨液供应系统及方法，属于自动化领域。该系统包括原料输送单元、自动混酸单元、分送阀箱、末端阀箱和过滤阀箱；所述原料输送单元、自动混酸单元、分送阀箱和末端阀箱依次连接；本发明不仅可以保证研磨液连续不间断稳定供应，还能有效防止研磨液结晶沉积。有效提高了晶圆研磨良率，显著提升了产能。另外，还可以保持研磨系统洁净度，对敏感液体进行温和的输送或制程处理，为制程提供准确、稳定和可靠的流量和压力供应。

技术领域

本发明属于自动化领域，涉及半导体12寸20nm以下制程研磨液供应系统及方法。

背景技术

目前，半导体12寸20nm以下制程研磨液相对应的制程很少，且对制程的要求很高，要求研磨液连续不间断稳定供应，还要防止研磨液结晶沉积。以致于现阶段半导体12寸20nm以下制程研磨液的晶圆研磨良率低下，产能低下。而且，部分品种的研磨液对供应系统的流速有很高的要求。

发明内容

有鉴于此，本发明的目的在于提供半导体12寸20nm以下制程研磨液供应系统及方法。

为达到上述目的，本发明提供如下技术方案：

半导体12寸20nm以下制程研磨液供应系统，包括原料输送单元、自动混酸单元、分送阀箱、末端阀箱和过滤阀箱；

所述原料输送单元、自动混酸单元、分送阀箱和末端阀箱依次连接；

所述分送阀箱还与过滤阀箱连接，所述过滤阀箱与化学机械抛光CMP机台连接；

原料输送单元、自动混酸单元、分送阀箱、末端阀箱和过滤阀箱之间采用双层管连接，双层管内管为PFA管，外管为C-PVC透明管；

研磨液通过分送阀箱和过滤阀箱输送至CMP机台；

所述原料输送单元还与纯水系统、工艺冷却供水和工艺冷却回水连接，还设有排水接口；

所述自动混酸单元还与纯水系统、工艺冷却供水和工艺冷却回水连接，还设有双氧水接口；

所述分送阀箱内设有模组阀，一路进一路出，每一路出口安装有流量计，侦测出口流量；分送阀箱内设有漏液传感器；

所述末端阀箱内设有压力调整阀和压力传感器进行压力调整，末端阀箱内设有漏液传感器；

所述过滤阀箱内设有两组模组阀，两组可拆过滤器；过滤阀箱内设有漏液传感器。

可选的，所述原料输送单元、自动混酸单元底部设有滑轮，滑轮设有固定卡扣。

可选的，所述原料输送单元、自动混酸单元、分送阀箱、末端阀箱和过滤阀箱的接口设有双倍冗余。

可选的，所述分送阀箱、末端阀箱和过滤阀箱的上盖设有RFID标签。

基于所述供应系统的半导体12寸20nm以下制程研磨液供应方法，包括以下步骤：

研磨液原料桶通过推车运至原料输送单元；

所述原料输送单元中，用抽液接头连接至原料桶，安装判空液位，用氮气将T-B气囊抽成真空，利用虹吸效应，将原料桶中的研磨液流入原料输送单元设备内部对应的管道上的T-B气囊(采用过滤器外壳制作而成)中，T-B气囊与磁浮泵入口端(设备内部管道上，磁浮泵入口接管处)相连接，使磁浮泵入口端充满研磨液；磁浮泵入口端只有充满液体时才开启；在设备内部对应的管道的最高点设置破真空装置；