[发明专利]一种脲基嘧啶酮分子修饰纳米硅的制备方法

权利要求书

1.一种脲基嘧啶酮分子修饰纳米硅的制备方法，其特征在于包括如下步骤：

（1）将2-氨基-6-(1-乙基戊基）-3H-嘧啶-4-酮和1,1-羰基二咪唑按摩尔比1：1~2进行混合，随后加入混合物体积5~10倍的三氯甲烷，在20~60℃下反应2~24h，制得异胞嘧啶异氰酸酯；

（2）将纳米硅分散于乙醇水溶液中，控制纳米硅与乙醇溶液的质量（g）体积比（mL）为1:48~53，随后加入乙醇水溶液体积0.2~0.3%的氨丙基三甲氧基硅烷，在20~70℃下反应2~24h，得到表面修饰氨基的纳米硅；

（3）将步骤（2）得到的表面修饰氨基的纳米硅分散于三氯甲烷中，控制表面修饰氨基的纳米硅与三氯甲烷的质量（g）体积比（mL）为0.4~0.6：30，随后加入表面修饰氨基的纳米硅质量8~12%异胞嘧啶异氰酸酯，在20~60℃下反应2~24h，得到脲基嘧啶酮分子修饰的纳米硅。

2.根据权利要求1所述一种脲基嘧啶酮分子修饰纳米硅的制备方法，其特征在于：所述步骤（1）反应温度为35~50℃，反应时间为6-8h。

3.根据权利要求1所述一种脲基嘧啶酮分子修饰纳米硅的制备方法，其特征在于：所述步骤（2）反应温度为30~60℃，反应时间为6-8h。

4.根据权利要求1所述一种脲基嘧啶酮分子修饰纳米硅的制备方法，其特征在于：所述步骤（2）乙醇水溶液中乙醇和水的体积比为1~7：3~9。

5.根据权利要求1所述一种脲基嘧啶酮分子修饰纳米硅的制备方法，其特征在于：所述步骤（3）反应温度为40~60℃，反应时间为4-6 h。

6.根据权利要求1所述一种脲基嘧啶酮分子修饰纳米硅的制备方法，其特征在于：所述脲基嘧啶酮分子修饰的纳米硅粒径为30-50nm。

7.根据权利要求1-6任一项所述一种脲基嘧啶酮分子修饰纳米硅的制备方法，其特征在于：所述脲基嘧啶酮分子修饰的纳米硅，其在纳米硅表面修饰氨基，利用氨基将脲基嘧啶酮分子修饰在硅纳米粒子表面。