[发明专利]一种哑光硬化半透明光学薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种哑光硬化半透明光学薄膜，其特征在于，包括基膜和硬化涂层，所述基膜为收缩率MD≤0.5％且TD≤0.2％的光学级材料，所述硬化涂层按重量分数计，包括以下原料：

2.如权利要求1所述的哑光硬化半透明光学薄膜，其特征在于，至少所述黑色油墨I为0％时，所述基膜和硬化涂层之间还设有油墨涂层。

3.如权利要求2所述的哑光硬化半透明光学薄膜，其特征在于，所述油墨涂层的厚度为1-10μm。

4.如权利要求1所述的哑光硬化半透明光学薄膜，其特征在于，所述光学级材料选自聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚苯硫醚、聚丙烯、无色聚酰亚胺、聚环烯烃或聚氨酯弹性体。

5.如权利要求1所述的哑光硬化半透明光学薄膜，其特征在于，所述基膜的厚度为12-300μm，所述硬化涂层的厚度为5-20μm。

6.如权利要求1所述的哑光硬化半透明光学薄膜，其特征在于，所述不饱和预聚物选自聚丙烯酸酯预聚物、聚氨酯预聚物、聚氨酯丙烯酸酯和环氧丙烯酸酯中的一种或多种。

7.如权利要求1所述的哑光硬化半透明光学薄膜，其特征在于，所述引发剂为光引发剂或热引发剂，

8.如权利要求1所述的哑光硬化半透明光学薄膜，其特征在于，所述消光粉的折射率为1.10-1.45，选自超细二氧化硅、二氧化钛、滑石粉、硬脂酸铝、硬脂酸钙和热固性聚甲基脲树脂中的一种或多种。

9.如权利要求1所述的哑光硬化半透明光学薄膜，其特征在于，所述助剂选自抗指纹助剂、附着力促进剂、偶联剂、抗静电剂、流平剂和防水剂中的一种或多种。

10.一种权利要求1-9中任一项所述的哑光硬化半透明光学薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤，

S1：选择收缩率MD≤0.5％且TD≤0.2％的光学级材料作为基膜；

S2：将涂布液涂布在所述基膜的表面，经烘干后固化形成硬化涂层，得到所述哑光硬化半透明光学薄膜。

所述涂布液按重量分数计，包括以下组分：