[发明专利]一种清香型抛光液组合物的制备方法在审
| 申请号： | 202211442202.2 | 申请日： | 2022-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN115725239A | 公开（公告）日： | 2023-03-03 |
| 发明（设计）人： | 梁振 | 申请（专利权）人： | 无锡市恒利弘实业有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 214412 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 香型 抛光 组合 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种清香型抛光液组合物的制备方法，其特征在于包括如下步骤：
（1）将颗粒的尺寸集中在20-30nm的硅溶胶研磨介质分散在适量的去离子水中，在搅拌过中加入羟乙基乙二胺表面活性剂，以100-150rpm的速度，常温搅拌10-15min，形成稳定悬浮液；
（2）向上述悬浮溶液中加入对-羟基苯-β-D-吡喃葡萄糖苷络合剂，30-35℃下以100-150rpm的速度搅拌2-3min后，补充含有柠檬精的余量常温去离子水；
（3）使用二乙烯三胺pH调节剂调节溶液的pH值范围为10-11范围内，获得晶片清香型抛光液组合物；
清香型抛光液组合物成分的质量百分比如下：
10~25wt%硅溶胶研磨介质：氧化硅磨料介质颗粒的尺寸集中在20-30nm，D98≤40nm；
2.5-2.8wt.% 络合剂：对-羟基苯-β-D-吡喃葡萄糖苷；
0.5-0.7wt.%表面活性剂：羟乙基乙二胺；
0.01-0.05wt.% 柠檬精香精；
pH调节剂：二乙烯三胺，调节pH在10-11范围内；
余量去离子水。
2.一种清香型抛光液组合物，其特征在于通过如权利要求1所述的一种清香型抛光液组合物的制备方法获得，所述清香型抛光液组合物处理获得的氧化铝晶片的抛光粗糙度Ra=0.4-0.6nm，去除率1.67-1.94μm/h。
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