[发明专利]反射型掩模坯料和反射型掩模

权利要求书

1.反射型掩模坯料，包含基板、在所述基板的一个主表面上形成并反射曝光光的多层反射膜，其中

所述多层反射膜具有在其中交替层叠低折射率层和高折射率层的周期性层叠结构部，

构成所述多层反射膜的所述低折射率层中的至少一个具有由第一子层和第二子层组成的两层结构，

所述第一子层包含钼(Mo)和至少一种选自由氮(N)、碳(C)、硼(B)、硅(Si)和氢(H)构成的组的添加元素，并具有大于0.3nm且不大于0.6nm的厚度，和

所述第二子层包含钼(Mo)并基本上不含除钼(Mo)之外的其它元素。

2.根据权利要求1所述的反射型掩模坯料，其中在所述低折射率层中，在基板侧形成第一子层，且在远离基板侧形成第二子层。

3.根据权利要求1或2所述的反射型掩模坯料，其中所述高折射率层包含硅(Si)。

4.根据权利要求1或2所述的反射型掩模坯料，其中所述多层反射膜具有不小于2.6nm的微晶直径，其由在X-射线衍射中检测的Mo(110)的X-射线衍射峰计算。

5.根据权利要求1或2所述的反射型掩模坯料，其中

所述基板具有所述一个主表面为152mm-见方和厚度为6.35mm的尺寸，和

在所述一个主表面的中心处142mm-见方的范围内的平坦度的改变量(△TIR)，即形成所述多层反射膜前后的平坦度差，以绝对值计不大于0.7μm。

6.根据权利要求1或2所述的反射型掩模坯料，包含保护层，其在远离基板侧形成并与所述周期性层叠结构部接触。

7.根据权利要求1或2所述的反射型掩模坯料，还包含吸收体膜，其吸收所述多层反射膜上的曝光光。

8.反射型掩模，包含通过将根据权利要求7所述的反射型掩模坯料的所述吸收体膜图案化而形成的图案。