[发明专利]防刮减反模组及其制备方法、显示模组在审
申请号: | 202211432006.7 | 申请日: | 2022-11-16 |
公开(公告)号: | CN115857068A | 公开(公告)日: | 2023-03-28 |
发明(设计)人: | 鲍爱兵 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | G02B1/113 | 分类号: | G02B1/113;G02B1/14;C09D133/00;C09D175/16 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 唐秀萍 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 防刮减反 模组 及其 制备 方法 显示 | ||
本发明提供了一种防刮减反模组及其制备方法、显示模组。所述防刮减反模组包括基底、设于所述基底的一表面上的折射率调控层以及设于所述折射率调控层远离所述基底的一表面上的硬化层。其中,所述折射率调控层的制备原料包含金属氧化物。
技术领域
本发明涉及显示设备领域,特别是一种防刮减反模组及其制备方法、显示模组。
背景技术
显示器在使用过程中,经常会受到刮擦,图像清晰度也会受到外部光源的影响,因此需对显示器表面进行处理,处理目的有两个,其一是提升显示器的机械性能,包括硬度和耐摩擦性能,使其能耐刮擦,其二是减少外部光源的反射来提升图像清晰度。
传统减反膜组的做法是先在基底沉积一层硬化涂层,再沉积减反射涂层。其中,减反射涂层的折射率一般较低,单纯的树脂涂层很难达到,一般需要引入中空或介孔纳米粒子,这种引入的中空或介孔纳米粒子一方面由于密度低于树脂本体,另一方面为了在树脂体系进行有效分散,需要表面进行修饰,而修饰剂的表面能较低,基于此,这些纳米粒子会优先沉积在表面,使得表面的树脂无法进行有效交联,所以即使进行了硬化处理的基底,减反射涂层的机械性能还是存在问题,一般硬度小于2H,耐磨性也小于10个周期,无法满足显示器的机械性能。
发明内容
本发明的目的是提供一种防刮减反模组及其制备方法、显示模组,以解决现有技术中反射涂层的机械性能差、耐磨性差以及硬度小等问题。
为实现上述目的,本发明提供一种防刮减反模组,所述防刮减反模组包括基底、设于所述基底的一表面上的折射率调控层以及设于所述折射率调控层远离所述基底的一表面上的硬化层。其中,所述折射率调控层的制备原料包含金属氧化物。
进一步地,所述硬化层的制备原料包含以下重量份的制备原料:100重量份的光固化树脂、1-10重量份光引发剂、0.1-1重量份的交联剂、10-40重量份的光聚合单体以及1000-10000重量份的溶剂。
进一步地,所述光聚合单体具有环状结构,且所述光聚合单体的玻璃化温度大于或等于80℃。
进一步地,所述光聚合单体包含丙烯酸异冰片酯、甲基丙烯酸异冰片酯和三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯中的至少一种。
进一步地,所述光固化树脂的官能度大于或等于5。所述交联剂的官能度大于或等于2。
进一步地,所述光固化树脂包含聚酯丙烯酸树脂、聚氨酯丙烯酸树脂、环氧丙烯酸树脂和聚倍半硅氧烷中的至少一种。所述交联剂包含聚氰胺类交联剂、环氧类交联剂和异氰酸酯类引发剂中的至少一种。
进一步地,所述光引发剂包含联苯酰缩酮类光引发剂、α,α-二烷氧基苯乙酮类光引发剂、α-羟基烷基苯酮类光引发剂、α-氨基烷基苯酮类光引发剂和酰基氧化膦类光引发剂中的至少一种。
进一步地,所述金属氧化物为微粒形结构,且所述微粒的粒径为10-100纳米。所述金属氧化物的折射率大于1.5且小于3。
本发明中还提供一种防刮减反模组的制备方法,所述制备方法中包括以下步骤:在一基板上形成折射率调控层,且所述折射率调控层的制备原料包含金属氧化物;调配硬化层溶液;在所述折射率调控层上涂布所述硬化层溶液,形成硬化层;
其中,所述硬化层溶液包含以下重量份的制备原料:100重量份的光固化树脂、1-10重量份光引发剂、0.1-1重量份的交联剂、10-40重量份的光聚合单体以及1000-10000重量份的溶剂。
本发明中还提供一种显示模组,所述显示模组包括一显示面板以及如上所述的防刮减反模组,所述防刮减反模组设于所述显示面板的显示面上。
本发明的优点是:本发明的一种防刮减反模组及显示模组,通过在折射率调控层的制备硬化层从而提高所述防刮减反模组的机械性能,提高所述显示模组的表面硬度以及耐摩擦性,进而提高所述显示模组的表面防刮性能,防止所述显示模组在使用过程中出现划痕。
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