[发明专利]一种锰酸镧陶瓷基光吸收体及其应用与制备方法有效
申请号: | 202211403156.5 | 申请日: | 2022-11-10 |
公开(公告)号: | CN115894025B | 公开(公告)日: | 2023-07-04 |
发明(设计)人: | 刘桂武;侯海港;刘军林;乔冠军 | 申请(专利权)人: | 微集电科技(苏州)有限公司 |
主分类号: | C04B35/50 | 分类号: | C04B35/50;C04B38/00;C04B41/87;G01J1/04;G01J1/42 |
代理公司: | 合肥市泽信专利代理事务所(普通合伙) 34144 | 代理人: | 潘飞 |
地址: | 215002 江苏省苏州市中国(江苏)自由贸易试*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 锰酸镧 陶瓷 吸收体 及其 应用 制备 方法 | ||
1.一种锰酸镧陶瓷基光吸收体,其特征在于,其包括:
陶瓷基体,其包括五个按照预设顺序依次叠层分布的结构层;各结构层包括位于中间层的锂掺杂锰酸镧陶瓷层;位于所述锂掺杂锰酸镧陶瓷层上下两侧的钙掺杂锰酸镧陶瓷层;以及位于所述钙掺杂锰酸镧陶瓷层上下两侧的致密的锰酸镧陶瓷层;所述锂掺杂锰酸镧陶瓷层和钙掺杂锰酸镧陶瓷层呈多孔结构,且在所述陶瓷基体中孔隙尺寸从中间向两侧呈梯度递减的分布状态;所述陶瓷基体中各结构层的厚度为0.05‒0.2mm,总厚度为0.5‒1mm;
抗激光损伤薄膜,其位于所述陶瓷基体其中一侧锰酸镧陶瓷层的外表面;所述抗激光损伤薄膜材料为氧化铝陶瓷;所述抗激光损伤薄膜的厚度为50‒200 nm;以及
纳米过渡层,其由陶瓷基体和抗激光损伤薄膜中的相邻结构层经高温热处理后生成,并位于二者的界面处。
2.如权利要求1所述的锰酸镧陶瓷基光吸收体,其特征在于:所述锂掺杂锰酸镧陶瓷层的化学组成为:La1-
3.如权利要求1所述的锰酸镧陶瓷基光吸收体,其特征在于:所述纳米过渡层由镀制有抗激光损伤薄膜的陶瓷基体经500~1000°C的温度保温热处理5~30min后制得。
4.一种如权利要求1-3任意一项所述的锰酸镧陶瓷基光吸收体的应用,其特征在于:将所述锰酸镧陶瓷基光吸收体作为激光能量计的探头中的光能吸收材料,用于吸收0.2~20μm波段内的紫外、可见以及近红外和中远红外光。
5.一种宽光谱的激光能量计,其特征在于:其使用的探头中采用了如权利要求1-3中任意一项所述的锰酸镧陶瓷基光吸收体。
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