[发明专利]波分复用器

权利要求书

1.一种波分复用器，其特征在于，包括：

第一硅波导(100)；

第二硅波导(102)，所述第二硅波导(102)与所述第一硅波导(100)的长度相同且宽度不同；

所述第一硅波导(100)和所述第二硅波导(102)中的至少一个形成有波导耦合段(104)，所述波导耦合段(104)内形成有周期性褶皱结构(106)。

2.根据权利要求1所述的波分复用器，其特征在于，沿所述第一硅波导(100)和/或所述第二硅波导(102)的长度方向，在至少部分所述第一硅波导(100)和/或所述第二硅波导(102)的分段上形成有所述波导耦合段(104)。

3.根据权利要求2所述的波分复用器，其特征在于，所述第一硅波导(100)和所述第二硅波导(102)中的一个形成有所述波导耦合段(104)，所述第一硅波导(100)和所述第二硅波导(102)中的另一个形成有与所述波导耦合段(104)对应的平直段(108)。

4.根据权利要求2所述的波分复用器，其特征在于，所述第一硅波导(100)和所述第二硅波导(102)均形成有所述波导耦合段(104)，且所述第一硅波导(100)和所述第二硅波导(102)上的所述褶皱结构(106)一一对应地设置。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的波分复用器，其特征在于，所述第一硅波导(100)和所述第二硅波导(102)相互平行间隔设置且所述褶皱结构(106)形成于所述第一硅波导(100)和所述第二硅波导(102)相对的侧面。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的波分复用器，其特征在于，所述第一硅波导(100)和所述第二硅波导(102)为条形波导或脊型波导。

7.根据权利要求1至4中任一项所述的波分复用器，其特征在于，所述第一硅波导(100)、所述第二硅波导(102)采用绝缘体上硅衬底一次刻蚀制成。

8.根据权利要求1至4中任一项所述的波分复用器，其特征在于，所述第一硅波导(100)和所述第二硅波导(102)中的一个的第一端为光波的输入端(110)；

所述第一硅波导(100)和所述第二硅波导(102)的第二端为所述光波的输出端(112)；

所述第一硅波导(100)和所述第二硅波导(102)中的另一个的第二端具有单一滤波的通带。

9.根据权利要求1至4中任一项所述的波分复用器，其特征在于，所述褶皱结构(106)包括矩形、三角形、高斯型、正弦函数型中的至少一种。

10.根据权利要求1至4中任一项所述的波分复用器，其特征在于，所述第一硅波导(100)和所述第二硅波导(102)的传播常数的传播常数差值Δβ满足：

Δβ＝2π/Λ；

其中，Λ为所述褶皱结构(106)的周期长度。