[发明专利]具有防护功能的有色薄膜结构及制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 202211399859.5 申请日: 2022-11-09
公开(公告)号: CN115755261A 公开(公告)日: 2023-03-07
发明(设计)人: 卜轶坤;关鹏;何泽湘;袁金亮;蔡光师;陈楠 申请(专利权)人: 厦门大学
主分类号: G02B5/28 分类号: G02B5/28;G02B5/08;G02B1/10;G02B1/14
代理公司: 厦门原创专利事务所(普通合伙) 35101 代理人: 李荣耀
地址: 361005 *** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 具有 防护 功能 有色 薄膜 结构 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.具有防护功能的有色薄膜结构的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括如下步骤:

步骤1、根据用户需求设计薄膜结构,所述薄膜结构为:(ML)p2(HL)p1H(LH)p1(LM)p2或者(ML)p2(HL)p1HLH(LH)p1(LM)p2,其中,H表示高折射率材料膜层,L表示低折射率材料膜层,M表示中折射率材料膜层,p1表示反射增强单元重复堆叠次数,p2表示抗损伤单元重复堆叠次数,p1和p2为正整数;

该薄膜结构为以H或L为中心的对称结构,位于薄膜结构中间的(HL)p1H(LH)p1或者(HL)p1HLH(LH)p1构成核心反射结构,每组(HL)或(LH)构成反射增强单元,每组反射增强单元由高折射率材料膜层H和低折射率材料膜层L堆叠而成;位于核心反射结构上方的(ML)p2构成上抗损伤结构,位于核心反射结构下方的(LM)p2构成下抗损伤结构,每组(ML)或(LM)构成抗损伤单元,每组抗损伤单元由中折射率材料膜层M和低折射率材料膜层L堆叠而成;

步骤2、对所述抗损伤单元中每个中折射率材料膜层M和低折射率材料膜层L的厚度进行优化设计,优化的目标是:(1)通过改变抗损伤单元中的中折射率材料膜层M和低折射率材料膜层L的厚度,让薄膜结构内部的电场强度极大值出现在低折射率材料膜层L内;(2)每个抗损伤单元中折射率材料膜层M和低折射率材料膜层L的入射光与反射光的相位差值需要满足干涉相长条件:2qπ,q为整数;

步骤3、根据所述薄膜结构所要呈现出的环境颜色调整每一层的最终厚度和光波参数,进而对所述薄膜结构的可见光波段光谱分布进行调制;

步骤4、根据设计结果确定出制备所述薄膜结构所需的结构参数,所述结构参数包括总层数、每层采用的材料、每一层的最终厚度和各层之间的分布情况;

步骤5、以表面平整物体作为基底,放置于成膜设备腔体中,接着生长一层脱膜剂于基底上;

步骤6、根据所述总层数、每层采用的材料、每一层的最终厚度和各层之间的分布情况,在脱膜剂上生长所述薄膜结构的第一层、第二层……直到最后一层;

步骤7、使用脱膜剂对应的溶剂将脱膜剂溶解,使所述薄膜结构与脱膜剂脱离,得到单独的所述薄膜结构,并放置于耐高温容器中。

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