[发明专利]一种足底按摩控制方法及足底按摩仪

权利要求书

1.一种足底按摩控制方法，应用于足底按摩仪，其特征在于，所述足底按摩仪包括分区设置的按摩区域，各按摩区域内独立地设置有按摩组件，所述方法包括：

获取按摩处方，所述按摩处方包括各按摩区域的按摩模式及其对应的按摩时间，所述按摩模式具有对应的按摩动作和按摩力度；

根据所述按摩处方控制按摩组件以相应的按摩模式对足底进行按摩。

2.如权利要求1所述的足底按摩控制方法，其特征在于，所述按摩处方包括依次执行的第一按摩阶段、第二按摩阶段和第三按摩阶段，在所述第一按摩阶段和第三按摩阶段，各按摩区域的按摩模式为默认按摩模式，在所述第二按摩阶段，至少一个按摩区域对应多种按摩模式。

3.如权利要求2所述的足底按摩控制方法，其特征在于，所述按摩区域包括至少一个摆动按摩区域，所述摆动按摩区域内独立地设置有摆动按摩组件，所述根据按摩处方控制按摩组件以相应的按摩模式对足底进行按摩，至少包括：

根据所述按摩处方控制摆动按摩组件以相应的按摩模式对足底进行按摩。

4.如权利要求3所述的足底按摩控制方法，其特征在于，在所述第二按摩阶段，所述摆动按摩区域包括第一按摩模式、第二按摩模式和第三按摩模式，所述第一按摩模式具有对应的第一按摩动作和第一按摩力度，所述第二按摩模式具有对应的第二按摩动作和第二按摩力度，所述第三按摩模式具有对应的第三按摩动作和第三按摩力度。

5.如权利要求4所述的足底按摩控制方法，其特征在于，所述摆动按摩组件包括对应的按摩头和摆动按摩体，所述按摩头可升降设置于对应摆动按摩体上，所述第一按摩动作为按摩头抬升后，摆动按摩体带动按摩头摆动，所述第二按摩动作为摆动按摩体带动按摩头摆动，以及在向第一方向摆动时抬升按摩头，在向第二方向摆动时降下按摩头，所述第三按摩动作为摆动按摩体带动按摩头摆动，以及在摆动过程中根据预设间隔抬升按摩头。

6.如权利要求5所述的足底按摩控制方法，其特征在于，所述第一按摩力度、第二按摩力度和第三按摩力度为按摩头在抬升时对足底皮肤的压力，所述第一按摩力度、第二按摩力度和第三按摩力度依次增大。

7.如权利要求6所述的足底按摩控制方法，其特征在于，在所述第一按摩阶段和第三按摩阶段，所述摆动按摩区域的按摩模式为第一默认按摩模式，所述第一默认按摩模式对应的第一默认按摩力度小于第二按摩力度。

8.如权利要求3所述的足底按摩控制方法，其特征在于，所述按摩区域包括四个摆动按摩区域，四个摆动按摩区域分别对应于脚底中上部内外侧和中下部内外侧。

9.如权利要求2至8任意一项权利要求所述的足底按摩控制方法，其特征在于，所述按摩区域包括至少一个旋转按摩区域，所述旋转按摩区域内独立地设置有旋转按摩组件，所述根据按摩处方控制按摩组件以相应的按摩模式对足底进行按摩，至少包括：

根据所述按摩处方控制旋转按摩组件以相应的按摩模式对足底进行按摩。

10.如权利要求9所述的足底按摩控制方法，其特征在于，在所述第二按摩阶段，所述旋转按摩区域包括第四按摩模式和第五按摩模式，所述第四按摩模式和第五按摩模式具有对应的第四按摩动作，所述第四按摩模式具有对应的第四按摩力度，所述第五按摩模式具有对应的第五按摩力度。

11.如权利要求10所述的足底按摩控制方法，其特征在于，所述旋转按摩组件包括对应的按摩头和旋转按摩体，所述按摩头可升降设置于对应旋转按摩体上，所述第四按摩动作为按摩头抬升后，旋转按摩体带动按摩头旋转。

12.如权利要求10所述的足底按摩控制方法，其特征在于，所述第四按摩力度和第五按摩力度为按摩头在抬升时对足底皮肤的压力，所述第四按摩力度小于第五按摩力度。