[发明专利]一种虚线绘制方法及相关装置

说明书

本申请公开了一种虚线绘制方法及相关装置，方法包括将目标图像中的像素点沿预设遍历路径进行遍历；计算遍历到的像素点在目标虚线上的投影向量相对于目标虚线的投影比例；根据投影比例及目标虚线的线段数目确定像素点所处的线段部分；当线段部分为实线部分时，根据投影比例计算像素点与胶囊体的有向场距离，基于有向场距离确定像素点的不透明度；当线段部分为虚线部分时，将像素点的不透明度配置为0；基于不透明度对像素点进行渲染。本申请通过有向场距离确定像素点的不透明度，并基于不透明度对像素点进行渲染，使得图像绘制的绘制顺序与图像信号的处理顺序一致，降低了线段绘制的处理复杂度，提高了图像绘制的效率。

技术领域

本申请涉及计算机技术领域，特别涉及一种虚线绘制方法及相关装置。

背景技术

嵌入设备对图像信号的处理方式是从左上角像素作为起点，按行列顺序依次对每个像素渲染，由此，在对图像进行处理时也需要按照从左上角像素作为起点，按行列顺序处理。然而，现有虚线绘制方法是从虚线的某一端作为起点，沿线段逐个像素渲染到线段的另一端，这使得线段绘制逻辑与嵌入设备对图像信号的处理逻辑不一致，增加了嵌入设备的处理复杂度，进而影响了线段的绘制效率。

因而现有技术还有待改进和提高。

发明内容

本申请要解决的技术问题在于，针对现有技术的不足，提供一种虚线绘制方法及相关装置。

为了解决上述技术问题，本申请实施例第一方面提供了一种虚线绘制方法，所述方法包括：

获取目标图像以及目标虚线对应的胶囊体，其中，所述目标虚线用于绘制于所述目标图像上；

将所述目标图像中的像素点沿预设遍历路径进行遍历；

对于遍历到的每个像素点，计算所述像素点在所述目标虚线上的投影向量相对于所述目标虚线的投影比例；

获取所述目标虚线的线段数目，并根据所述投影比例以及所述线段数目确定所述像素点所处的线段部分；

当所述线段部分为实线部分时，根据所述投影比例计算所述像素点与所述胶囊体的有向场距离，基于计算到的有向场距离确定所述像素点的不透明度；

当所述线段部分为虚线部分时，将所述像素点的不透明度配置为0；

基于所述不透明度对所述像素点进行渲染，以得到绘制有所述目标虚线的目标图像。

在一个实现方式中，所述预设遍历路径为基于目标图像对应的图像信号处理顺序所确定的。

在一个实现方式中，所述根据所述投影比例计算所述像素点与所述胶囊体的有向场距离具体包括：

根据所述目标虚线的起始点、终止点以及所述投影比例，确定所述像素点在所述目标虚线上的投影点；

获取所述像素点和所述投影点之间的距离，将所述距离与所述胶囊体的胶囊半径的差值作为所述像素点与所述胶囊体的有向场距离。

在一个实现方式中，所述根据所述投影比例以及所述线段数目，确定所述像素点所处的线段部分具体包括：

基于所述线段数目和所述投影比例确定目标数值，其中，所述目标数值＝线段数目*投影比例*2；

获取所述目标数值相对于2的余数；

当所述余数为0时，判定所述像素点位于实线部分；

当所述余数不为0时，判定所述像素点位于虚线部分。

在一个实现方式中，所述基于所述不透明度对所述像素点进行渲染之前，所述方法还包括抗锯齿操作，其中，所述抗锯齿操作具体包括：

获取所述像素点的目标数值的小数部分；