[发明专利]高精度模压的超构表面结构的硫系光学器件及其制备方法在审
| 申请号： | 202211317785.6 | 申请日： | 2022-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN115536251A | 公开（公告）日： | 2022-12-30 |
| 发明（设计）人： | 张鸣杰;陈媛芝 | 申请（专利权）人： | 暨南大学 |
| 主分类号： | C03B23/03 | 分类号： | C03B23/03;C03B23/00;G02B1/00 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人： | 祝蓉蓉 |
| 地址： | 510710 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 高精度 模压 表面 结构 光学 器件 及其 制备 方法 | ||
1.高精度模压的超构表面结构的硫系光学器件的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤一，将设计的超构表面结构图形转移到模压模芯上；
步骤二，预处理硫系预型体；
步骤三，将预处理后的硫系预型体放入精密模压模具的下模芯中心位置，然后将下模芯套上模套，再将上模芯放入模套中；
步骤四，将精密模压模具放入模压设备中，进行缓慢升温；
步骤五，在温度升至硫系玻璃玻璃化转变温度以上预设温度时进行模压操作，将模芯上的超表面结构图形转移至硫系玻璃表面；
步骤六，保持压力及温度预设时间后；
步骤七，缓慢减小压力并降温；
步骤八，待温度低于硫系玻璃玻璃化转变温度停止施压；
步骤九，缓慢降温至出料温度，得到具有超构表面的硫系玻璃光学元器件。
2.根据权利要求1所述高精度模压的超构表面结构的硫系光学器件的制备方法，其特征在于，设计的超构表面结构图形为单面或双面。
3.根据权利要求1所述高精度模压的超构表面结构的硫系光学器件的制备方法，其特征在于，硫系预型体使用片状硫系预型体或球状硫系预型体。
4.根据权利要求1所述高精度模压的超构表面结构的硫系光学器件的制备方法，其特征在于，模压设备的升温速率不大于10℃/s，模压设备的降温速率不大于10℃/s。
5.根据权利要求1所述高精度模压的超构表面结构的硫系光学器件的制备方法，其特征在于，开始施加压力的温度为不小于硫系玻璃玻璃化转变温度以上5℃，停止施加压力时温度为不大于硫系玻璃玻璃化转变温度以下5℃。
6.根据权利要求1所述高精度模压的超构表面结构的硫系光学器件的制备方法，其特征在于，模压的压力不大于10000N。
7.根据权利要求1所述高精度模压的超构表面结构的硫系光学器件的制备方法，其特征在于，保持压力及温度的持续时间不小于5s。
8.根据权利要求1所述高精度模压的超构表面结构的硫系光学器件的制备方法，其特征在于，出料温度不大于100℃。
9.根据权利要求1所述高精度模压的超构表面结构的硫系光学器件的制备方法，其特征在于，所述方法还包括：对具有超构表面的硫系玻璃光学元器件进行退火，退火温度不低于50℃，退火时间不低于10min。
10.根据权利要求1-9中任一项所述方法制备的高精度模压的超构表面结构的硫系光学器件。
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