[发明专利]一种洞瓷及其制备方法

权利要求书

1.一种洞瓷的制备方法，其特征在于，包括如下步骤，

1)将胚体所需的细粉原料按照比例进行配比；

2)选择粒径小于设定的胚体厚度二分之一的熔块；

3)将熔块平铺在压机磨具的底部，在熔块上方倒入胚体原料；

4)启动压机将胚体原料与熔块压制成固定形状的胚体；

5)将胚体放入辊道窑内烧制，直至熔块蒸发消失形成空洞胚体定型。

2.根据权利要求1所述的一种洞瓷的制备方法，其特征在于，所述熔块的烧失温度低于所述胚体原料的定型温度。

3.根据权利要求1所述的一种洞瓷的制备方法，其特征在于，所述熔块单层平铺在压机磨具的底部。

4.根据权利要求1所述的一种洞瓷的制备方法，其特征在于，所述熔块包括石英、锆英砂、硼砂、铅丹、硝酸钾。

5.根据权利要求1所述的方法制备出的一种洞瓷，其特征在于，包括胚体，所述胚体底面设置有多个洞孔，所述洞孔的形状、大小、深浅均不相同，所述洞孔将所述胚体底面掏空为凹凸不平的坑洞结构，所述洞孔直径小于所述压制定型胚体厚度的二分之一，所述洞孔在所述胚体底面形成的坑洞面积小于所述胚体底面的70％。

6.根据权利要求1所述的方法制备出的一种洞瓷，其特征在于，所述洞孔为单层。