[发明专利]周期性旋转量子门的标定方法及装置、电子设备和介质

权利要求书

1.一种周期性旋转量子门的标定方法，包括：

获得待标定量子门所对应的第一刻画方程组，其中所述第一刻画方程组包括多个第一刻画方程，每个所述第一刻画方程基于第一周期范围内相应的第一角度确定，以确定所述待标定量子门在所述第一角度上的周期性；

依次根据所述第一刻画方程组中的每个所述第一刻画方程进行量子门操作，以获得相对应的测量结果；

响应于每个所述第一刻画方程所对应的测量结果均符合预期结果，获得所述待标定量子门所对应的第二刻画方程组，其中所述第二刻画方程组包括多个第二刻画方程，每个所述第二刻画方程基于所述第一周期范围内相应的第二角度确定，并且其中，至少一个所述第二刻画方程进一步基于所述第一角度确定；

依次根据所述第二刻画方程组中的每个所述第二刻画方程进行量子门操作，以获得相对应的测量结果；

响应于每个所述第二刻画方程所对应的测量结果均符合预期结果，获得所述待标定量子门所对应的第三刻画方程组，其中所述第三刻画方程组包括多个第三刻画方程，每个所述第三刻画方程基于所述第一周期范围之外的相应角度确定；

依次根据所述第三刻画方程组中的每个所述第三刻画方程进行量子门操作，以获得相对应的测量结果；以及

响应于每个所述第三刻画方程所对应的测量结果均符合预期结果，将所述待标定量子门标定为可信。

2.如权利要求1所述的方法，其中，所述待标定量子门包括RX门和RY门中的至少一个。

3.如权利要求1所述的方法，其中，所述待标定量子门包括RX门和RY门，其中所述方法还包括：

获取第四刻画方程，所述第四刻画方程组于所述RX门和RY门的相位差确定；

根据所述第四刻画方程进行量子门操作，以获得相对应的测量结果；以及

响应于所述第四刻画方程所对应的测量结果均符合预期结果，将所述待标定量子门标定为可信。

4.如权利要求1或3所述的方法，其中，所述待标定量子门包括RX门和RY门，其中所述方法还包括：

获取第五刻画方程组，所述第五刻画方程组基于所述RX门和RY门在第一周期范围内的相应角度确定；

依次根据所述第五刻画方程组中的每个刻画方程进行量子门操作，以获得相对应的测量结果；以及

响应于所述第五刻画方程组所对应的测量结果均符合预期结果，将所述待标定量子门标定为可信。

5.如权利要求1所述的方法，其中，所述刻画方程组是基于酉变换的矩阵表示构造的。

6.如权利要求4所述的方法，其中，依次根据所述第五刻画方程组中的每个刻画方程进行量子门操作，以获得相对应的测量结果包括：

响应于所述第五刻画方程组中的一个或多个刻画方程所对应的预期结果为叠加态，根据所述一个或多个刻画方程中的每一个刻画方程分别进行多次量子门操作，以获得相应的多个测量结果；以及

对于所述每一个刻画方程：统计所述相应的多个测量结果中的为所述叠加态中的相应态的次数。

7.如权利要求6所述的方法，其中，基于假设检验方法判断所述一个或多个刻画方程所对应的测量结果是否符合所述预期结果。

8.如权利要求1所述的方法，还包括：

响应于任意一个刻画方程组中的一个或多个刻画方程所对应的测量结果与所述预期结果存在偏差，基于所述偏差确定所述待标定量子门保真度。

9.如权利要求2-4中任一项所述的方法，其中，所述待标定量子门还包括CZ门，其中所述方法还包括：

获取第六刻画方程组，所述第六刻画方程组基于所述RX门和RY门以及所述CZ门确定；

响应于所述RX门和RY门已被标定为可信，依次根据所述第六刻画方程组中的每个刻画方程进行量子门操作，以获得相对应的测量结果；以及

响应于所述第六刻画方程组所对应的测量结果均符合预期结果，将所述CZ门标定为可信。