[发明专利]一种抗饱和磁芯元件的制备方法

说明书

本发明提供一种抗饱和磁芯元件的制备方法，属于电感元件技术领域，包括：对预制磁环进行等离子清洗机处理，并进行表面蚀刻；对清洗后的预制磁环进行定型及退火处理；退火后，对预制磁环进行等离子喷涂处理，形成磁芯元件。有益效果：本发明通过对预制磁环进行等离子清洗处理，以激发非晶或纳米晶带材的自由电子数量，从而增加磁性材料的玻尔磁子数的比例，进而提高磁性材料的饱和磁感应强度Bs；预制磁环在等离子清洗机处理时，对其表面进行蚀刻，造成表面不平整，有利于后面对预制磁环进行等离子喷涂工艺；采用本发明提供的磁芯元件的制备方法，提高了磁芯元件的抗饱和能力，缩小了磁芯元件的体积。

技术领域

本发明涉及电感元件技术领域，尤其涉及一种抗饱和磁芯元件的制备方法。

背景技术

非晶或纳米晶带材自上世纪被发现以来，因其具有高的初始磁导率、饱和磁通、电阻率和居里温度，低的矫顽力、电阻温度系数和磁致伸缩系数，以及耐腐蚀和抗老化的特点，被广泛应用于电力电子领域。

现有的采用非晶或纳米晶的磁芯元件的制备方法不能完全发挥非晶或纳米晶带材应有的电磁性能，导致非晶或纳米晶的饱和磁感应强度较低，磁芯元件抗饱和性也较低。

发明内容

为了解决以上技术问题，本发明提供了一种抗饱和磁芯元件的制备方法。

本发明所解决的技术问题可以采用以下技术方案实现：

一种抗饱和磁芯元件的制备方法，包括：

对预制磁环进行等离子清洗处理，并进行表面蚀刻；

对清洗后的所述预制磁环进行定型及退火处理；

退火后，对所述预制磁环进行等离子喷涂处理，形成磁芯元件。

上述的抗饱和磁芯元件的制备方法，其中，所述对预制磁环进行等离子清洗处理之前，还包括：对带材进行卷绕，得到预设尺寸的所述预制磁环。

上述的抗饱和磁芯元件的制备方法，其中，所述带材为非晶带材或纳米晶带材。

上述的抗饱和磁芯元件的制备方法，其中，所述对预制磁环进行等离子清洗处理，包括：

真空度小于-0.05Mpa，充入氮气或氩气，等离子发生器功率为600 w-5000w，时间为5-30min。

上述的抗饱和磁芯元件的制备方法，其中，所述对所述预制磁环进行等离子喷涂处理，包括：

真空度小于-0.05Mpa，喷涂物为绝缘固体粉末，喷涂厚度为 0.02-0.1mm。

上述的抗饱和磁芯元件的制备方法，其中，所述绝缘固体粉末为陶瓷粉末或树脂粉末。

上述的抗饱和磁芯元件的制备方法，其中，所述预制磁环定型后呈现椭圆形、矩形、三角形、或菱形中的任意一种。

本发明技术方案的优点或有益效果在于：

本发明通过对预制磁环进行等离子清洗处理，以激发非晶或纳米晶带材的自由电子数量，从而增加磁性材料的玻尔磁子数的比例，进而提高磁性材料的饱和磁感应强度Bs；预制磁环在等离子清洗机处理时，对其表面进行蚀刻，造成表面不平整，有利于后面对预制磁环进行等离子喷涂工艺；采用本发明提供的磁芯元件的制备方法，提高了磁芯元件的抗饱和能力，缩小了磁芯元件的体积。

附图说明

图1为本发明较佳实施例中，抗饱和磁芯元件的制备方法的流程示意图。

具体实施方式