[发明专利]一种水下轻质耐压吸声型格栅阵列结构在审

专利信息
申请号: 202211245180.0 申请日: 2022-10-12
公开(公告)号: CN115641829A 公开(公告)日: 2023-01-24
发明(设计)人: 周晓松;邹春荣;郭少军;沈同圣;赵德鑫 申请(专利权)人: 中国人民解放军军事科学院国防科技创新研究院
主分类号: G10K11/16 分类号: G10K11/16
代理公司: 武汉强知知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42303 代理人: 丁倩
地址: 100071 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 水下 耐压 吸声 格栅 阵列 结构
【权利要求书】:

1.一种水下轻质耐压吸声型格栅阵列结构,其特征在于,包括阵列框架以及吸声单元阵列;

所述阵列框架由表层面板(1)和阵列框架(2)构成;

表层面板(1)包括平行正对设置的上面板(10)和下面板(11)以及四周的侧板(12);阵列框架(2)包括垂直设置的若干栅板(20);栅板(20)将表层面板(1)内腔分割形成若干安装腔(21);

所述吸声单元阵列包括依次设置于各安装腔(21)内的吸声单元;

所述吸声单元包括包覆层、吸声芯层(4)以及设置于吸声芯层(4)内的质量分配结构(3);

吸声芯层(4)充满安装腔(21),包覆层设置于吸声芯层(4)与安装腔(21)内壁之间;吸声芯层(4)内均匀设置有若干塔型吸声腔;塔型吸声腔由沿竖向同轴设置的三个组合腔构成;所述组合腔由顶部的柱形空腔(40)和底部的锥台空腔(41)构成;

柱形空腔(40)的直径与锥台空腔(41)的锥顶直径一致;相邻组合腔利用柱形空腔(40)相连通;柱形空腔(40)顶部的包覆层的厚度不小于2mm;组合腔底部的锥台空腔(41)的锥底从吸声芯层(4)底部穿出形成透声口(41a);

质量分配结构(3)由内环(30)、外环(31)、游离环(32)构成;

内环(30)和外环(31)设置于相邻的两个组合腔之间;内环(30)的内径与其下侧相邻的柱形空腔(40)的直径一致且正对设置;内环(30)的外径小于其上侧相邻的锥台空腔(41)的锥底直径;外环(31)的内径与其上侧相邻的锥台空腔(41)的锥底直径一致且正对设置;游离环(32)均匀布置在各外环(31)之间。

2.根据权利要求1所述的水下轻质耐压吸声型格栅阵列结构,其特征在于,所述栅板(20)相互垂直并将表层面板(1)内腔分割形成若干尺寸一致的正方体形的安装腔。

3.根据权利要求1所述的水下轻质耐压吸声型格栅阵列结构,其特征在于,所述栅板(20)的厚度远大于上面板(10)和下面板(11)的厚度;所述包覆层均匀包覆在吸声芯层(4)表面,包覆层的厚度远小于吸声芯层(4)的尺寸。

4.根据权利要求1所述的水下轻质耐压吸声型格栅阵列结构,其特征在于,所述圆柱形空腔(40)的厚度H1:锥台空腔(41)厚度H2:质量分配结构(3)的厚度H3=1~1.5:1.5~2:1~1.5。

5.根据权利要求1所述的水下轻质耐压吸声型格栅阵列结构,其特征在于,所述内环(30)、外环(31)、游离环32由钢材料制成。

6.根据权利要求1所述的水下轻质耐压吸声型格栅阵列结构,其特征在于,所述塔型吸声腔呈环形阵列或矩形阵列均匀设置。

7.根据权利要求1所述的水下轻质耐压吸声型格栅阵列结构,其特征在于,所述阵列框架(2)和吸声芯层(4)由聚氨酯阻尼吸声材料制成,密度为900~1000kg/m3,静水耐压强度1~2MPa,线弹性应变范围0~0.3;塑性段应变范围为0.3~0.5;阵列框架(2)采用RTM真空成型工艺制成;

所述表层面板(1)和包覆层由湿法缠绕成型加工工艺得到;加工过程中缠绕角为10°~30°,缠绕厚度1~2mm,张力5~35N;加工工艺中使用的增强纤维为玻璃纤维或芳纶纤维,树脂基体采用聚酯树脂或乙烯基酯树脂,纤维树脂质量比在0.8~1.5含量范围内。

8.根据权利要求1所述的水下轻质耐压吸声型格栅阵列结构,其特征在于,上面板(10)和下面板(11)的厚度与栅板(20)的厚度比范围为0.05~0.10;

所述高强透波材料格栅(1)和轻质耐压吸声型材料多层阵列结构单元(2)阵列填充布置设计,高强透波材料格栅(1)厚度与相邻轻质耐压吸声型材料多层阵列结构单元(2)中心轴间距的比值范围为0.02~0.05。

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