[发明专利]一种非接触测量不透光光学平面零件平行和垂直的方法

权利要求书

1.一种非接触测量不透光光学平面零件平行的方法，其特征在于，采用旋转平台、自准直仪和基准光学四方体测量零件的两个平行光学表面的平行度，所述旋转平台能够调整水平度和自转，所述基准光学四方体摆放在旋转平台表面且具有四个垂直的基准侧面，所述自准直仪水平设置在基准光学四方体一侧；

测量时，先对基准光学四方体进行校准，通过对旋转平台进行调整水平度，使得在自准直仪目镜视场内，四个基准面在上下方向上的刻度位置一致且位于目镜视场中部；

将待测量零件放在基准光学四方体上，将待测量零件的第一抛光面与同一侧的基准侧面摆放方向一致，在自准直仪的目镜视场中同时看到第一抛光面的第一测量反射像以及基准侧面的第一基准反射像，调整待测量零件的位置，使第一测量反射像接近第一基准反射像，记录此时第一测量反射像与第一基准反射像之间的角度偏差，即水平方向偏差为θx1，上下方向偏差为θy1；

转动旋转平台，自准直仪对待测量零件的第二抛光面进行测量，在自准直仪的目镜视场中同时看到第二抛光面的第二测量反射像以及同一侧的基准侧面的第二基准反射像，第二测量反射像与第二基准反射像位于目镜中部，记录此时第二测量反射像与第二基准反射像之间的角度偏差，即水平方向偏差为θx2，上下方向偏差为θy2；

进行平行差的计算：水平方向的平行差θx＝|θx1+θx2|，上下方向的平行差θy＝|θy1+θy2|，最后对带测量零件的总平行差进行计算：

根据对带测量零件的总平行差判断零件的质量。

2.如权利要求1所述的一种非接触测量不透光光学平面零件平行的方法，其特征在于，在水平方向偏差中，第一测量反射像和第二测量反射像在左为负，在右为正；在上下方向偏差中，第一测量反射像和第二测量反射像在下为负，在上为正。

3.如权利要求1所述的一种非接触测量不透光光学平面零件平行的方法，其特征在于，旋转平台通过转轴组件与水平调节平台连接，所述水平调节平台下方设置有底板，所述水平调节平台与底板之间设置有三个水平调节螺钉，所述底板底部设置有三个底脚。

4.如权利要求3所述的一种非接触测量不透光光学平面零件平行的方法，其特征在于，所述基准光学四方体粘结固定在旋转平台表面。

5.如权利要求1所述的一种非接触测量不透光光学平面零件平行的方法，其特征在于，在基准光学四方体表面且靠近四个侧边的位置上设置区分标识。

6.一种非接触测量不透光光学平面零件垂直的方法，其特征在于，采用旋转平台、自准直仪和基准光学四方体测量零件的两个垂直光学表面的平行度，所述旋转平台能够调整水平度和自转，所述基准光学四方体摆放在旋转平台表面且具有四个垂直的基准侧面，所述自准直仪水平设置在基准光学四方体一侧；

测量时，先对基准光学四方体进行校准，通过对旋转平台进行调整水平度，使得在自准直仪目镜视场内，四个基准面在上下方向上的刻度位置一致且位于目镜视场中部；

将待测量零件放在基准光学四方体上，将待测量零件的第一抛光面与同一侧的基准侧面摆放方向一致，在自准直仪的目镜视场中同时看到第一抛光面的第一测量反射像以及基准侧面的第一基准反射像，调整待测量零件的位置，使第一测量反射像接近第一基准反射像，记录此时第一测量反射像与第一基准反射像之间的角度偏差即水平方向偏差为Ax1；

转动旋转平台，自准直仪对待测量零件的第二抛光面进行测量，在自准直仪的目镜视场中同时看到第二抛光面的第二测量反射像以及同一侧的基准侧面的第二基准反射像，第二测量反射像与第二基准反射像位于目镜中部，记录此时第二测量反射像与第二基准反射像之间的角度偏差，即水平方向偏差为Ax2；

随后待测量零件上相邻两个抛光面的夹角A＝90°+Ax1-Ax2；

根据对带测量零件的夹角角度判断零件的质量。

7.如权利要求6所述的一种非接触测量不透光光学平面零件垂直的方法，其特征在于，在水平方向偏差中，第一测量反射像和第二测量反射像的反射像在左为负，在右为正。