[发明专利]一种新型麻将牌抛光和清洗消毒机

权利要求书

1.一种新型麻将牌抛光和清洗消毒机，包括机壳(1)以及安装在机壳(1)上的上料机构、回转拾取机构、抛光清洗机构、电控单元和高温消毒单元，其特征在于：所述上料机构包括上料仓(14)，所述上料仓(14)的内部倾斜安装有上料滑道(2)，所述回转拾取机构包括支撑架(3)以及转动安装在支撑架(3)上的转轮(4)，所述转轮(4)的侧壁上开设有四个缺槽作为工作面，四个所述缺槽呈等角度设置，麻将牌从所述上料滑道(2)滑出后被吸附在缺槽内，所述抛光清洗机构包括第一清洗机构(5)、第二清洗机构(6)、第三清洗机构(7)和第四清洗机构(8)；

所述转轮(4)的两侧安装有第一清洗机构(5)，所述第一清洗机构(5)用于清洗麻将牌的两侧面，所述转轮(4)的外缘安装有第二清洗机构(6)，所述第二清洗机构(6)用于清洗麻将牌的正面，所述机壳(1)的内部安装有下板，所述下板上分别安装有用于清洗麻将牌背面的第三清洗机构(7)和用于清洗麻将牌端面的第四清洗机构(8)，所述机壳(1)的内部还安装有高温消毒单元，所述高温消毒单元包括高温风筒(10)，所述机壳(1)的内部还设置有出料滑道(11)，所述高温风筒(10)的出风口与出料滑道(11)对齐设置。

2.根据权利要求1所述的一种新型麻将牌抛光和清洗消毒机，其特征在于：所述第一清洗机构(5)包括对称设置的两组第一安装架(51)，所述第一安装架(51)上分别安装有一组第一抛光清洗轮(52)和两组第一导轮(53)。

3.根据权利要求2所述的一种新型麻将牌抛光和清洗消毒机，其特征在于：所述第一抛光清洗轮(52)的外壁包裹一层长毛绒布，两组所述第一导轮(53)关于第一抛光清洗轮(52)对称设置，所述第一抛光清洗轮(52)活动设置，可自适应麻将牌的大小。

4.根据权利要求3所述的一种新型麻将牌抛光和清洗消毒机，其特征在于：所述第一导轮(53)用于控制第一抛光清洗轮(52)与麻将牌的两侧面保持两毫米的挤压间距进行清洗。

5.根据权利要求1所述的一种新型麻将牌抛光和清洗消毒机，其特征在于：所述第二清洗机构(6)包括第二安装架(61)，所述第二安装架(61)上分别安装有一组第二抛光清洗轮(62)和两组第二导轮(63)。

6.根据权利要求5所述的一种新型麻将牌抛光和清洗消毒机，其特征在于：所述第二抛光清洗轮(62)的外壁包裹一层长毛绒布，两组所述第二导轮(63)关于第二抛光清洗轮(62)对称设置，所述第二抛光清洗轮(62)活动设置，可自适应麻将牌的大小。

7.根据权利要求6所述的一种新型麻将牌抛光和清洗消毒机，其特征在于：所述第二导轮(63)用于用于控制第二抛光清洗轮(62)与麻将牌的正面保持两毫米的挤压间距进行清洗。

8.根据权利要求1所述的一种新型麻将牌抛光和清洗消毒机，其特征在于：所述下板上安装有电机推动机构(13)，正面清洗过的麻将牌在所述转轮(4)的带动下掉落在下板上，所述电机推动机构(13)推动落下的麻将牌进入下一个工位的第三清洗机构(7)。

9.根据权利要求1所述的一种新型麻将牌抛光和清洗消毒机，其特征在于：所述机壳(1)的下板上安装有限位架(12)，所述限位架(12)的高度等于麻将牌的厚度。

10.根据权利要求1所述的一种新型麻将牌抛光和清洗消毒机，其特征在于：所述缺槽的内部嵌设有高强磁铁，所述麻将牌的内部预埋磁铁，所述转轮(4)在磁铁的作用下实现对麻将牌的自动拾取。