[发明专利]一种具备气压传感功能的原位加热芯片及其制作方法在审

专利信息
申请号: 202211221695.7 申请日: 2022-10-08
公开(公告)号: CN115557462A 公开(公告)日: 2023-01-03
发明(设计)人: 贺龙兵;卢子煜;谢君 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: B81B7/02 分类号: B81B7/02;B81B7/00;B81C1/00
代理公司: 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 代理人: 沈廉
地址: 210096 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 具备 气压 传感 功能 原位 加热 芯片 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种具备气压传感功能的原位加热芯片,其特征在于:该芯片包含基板芯片与顶板芯片;

所述基板芯片包含第一硅衬底(1),构建在第一硅衬底(1)下表面的第一下表面介质层(2),构建在第一硅衬底(1)上表面的第一上表面介质层(3);顺序构建在第一上表面介质层(3)上的基板芯片接触电极(4)、基板芯片电容极板(6)、基板芯片加热电极(5)、基板芯片支撑柱(7)、基板芯片隔离层(18);贯穿第一硅衬底(1)与第一下表面介质层(2)的第一镂空区(8);将基板加热芯片(5)中心作为观察窗口(16);

所述顶板芯片包含第二硅衬底(9),构建在第二硅衬底(9)下表面的第二下表面介质层(10),构建在第二硅衬底(9)上表面的第二上表面介质层(11);构建在第二上表面介质层(11)上的顶板芯片电容极板(13);顺序构建在第二上表面介质层(11)上的顶板芯片接触电极(12)、顶板芯片支撑柱(14)、顶板芯片隔离层(19);贯穿第二硅衬底(9)与第二下表面介质层(10)第二镂空区(15);

基板芯片与顶板芯片的上表面相对设置使顶板芯片支撑柱(14)与基板芯片支撑柱(7)对准接触封装,形成密封腔。

2.根据权利要求1所述具备气压传感功能的原位加热芯片,其特征在于:所述基板芯片电容极板(6)与顶板芯片电容极板(13)采用叉指状结构,在室温下其电容值大于0.1pF。

3.根据权利要求2所述具备气压传感功能的原位加热芯片,其特征在于:所述基板芯片电容极板(6)与顶板芯片电容极板(13),利用基板芯片电容极板(6)与顶板芯片电容极板(13)构成电容式电极对,用于检测密封腔内气压变化。

4.根据权利要求1所述具备气压传感功能的原位加热芯片,其特征在于:所述基板芯片加热电极(5)用于控制密封腔内部温度,同时通过透射电镜对观察窗口(16)内部样品形貌变化。

5.根据权利要求1所述具备气压传感功能的原位加热芯片,其特征在于:所述基板芯片隔离层(18)与顶板芯片隔离层(19)对粘后形成带有狭缝的隔离带,以减少样本升华对电容极板的污染,提高芯片使用稳定性。

6.根据权利要求1所述具备气压传感功能的原位加热芯片,其特征在于:所述第一下表面介质层(2)、第一上表面介质层(3)、第二下表面介质层(10)、第二上表面介质层(11)采用氮化硅等绝缘材料,要求介质层厚度为5nm~50nm以满足观察窗口(16)厚度需求。

7.根据权利要求1所述具备气压传感功能的原位加热芯片,其特征在于:所述基板芯片接触电极(4)、基板芯片加热电极(5)、基板芯片电容极板(6)、基板芯片支撑柱(7)、顶板芯片接触电极(12)、顶板芯片电容极板(13)、顶板芯片支撑柱(14)、基板芯片隔离层(18)、顶板芯片隔离层(19)的材料为金、铂金属材料,厚度为150nm~250nm。

8.根据权利要求3所述具备气压传感功能的原位加热芯片,其特征在于:所述顶板芯片电容极板(13)厚度小于顶板芯片接触电极(14)的厚度,用于在基板芯片电容极板(6)与顶板芯片电容极板(13)之间留出空间,形成电容式气压传感器。

9.根据权利要求1所述具备气压传感功能的原位加热芯片,其特征在于:所述粘合剂(17)材料为环氧树脂、银胶、ITO、铟或紫外线固化胶。

10.一种如权利要求1所述具备气压传感功能的原位加热芯片的制作方法,其特征在于,该制作方法包括:

步骤1,制备基板芯片:在第一硅衬底(1)的上表面和下表面形成第一上表面介质层(3)、第一下表面介质层(2);在第一上表面介质层(3)上形成基板芯片接触电极(4)、基板芯片加热电极(5)、基板芯片电容极板(6)、基板芯片支撑柱(7)、基板芯片隔离层(18);在第一硅衬底(1)、第一下表面介质层(2)形成贯穿的第一镂空区(8);

步骤2,制备顶板芯片:在第二硅衬底(9)上表面和下表面形成第二上表面介质层(11)、第二下表面介质层(10);在第二上表面介质层(11)上形成顶板芯片电容极板(13);在第二上表面介质层(11)上形成顶板芯片接触电极(12)和顶板芯片支撑柱(14)、顶板芯片隔离层(19);在第二硅衬底(9)、第二下表面介质层(10)形成贯穿的第二镂空区(15);

先用一次金属剥离工艺形成顶板芯片接触电极(12)、顶板芯片电容极板(13)、顶板芯片支撑柱(14)、顶板芯片隔离层(19),再用一次金属剥离工艺对顶板芯片接触电极(12)、顶板芯片支撑柱(14)、顶板芯片隔离层(19)进行加厚以达到和顶板芯片电容极板(13)分层的效果;

步骤3,将待测样品根据实验需求置于基板芯片观察窗口区;

将基板芯片与顶板芯片上表面相对,基板芯片支撑柱(7)与顶板芯片支撑柱(14)对准接触,在基板芯片与顶板芯片交界处涂覆粘合剂(17)进行粘接闭合。

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