[发明专利]一种具备气压传感功能的原位加热芯片及其制作方法在审
申请号: | 202211221695.7 | 申请日: | 2022-10-08 |
公开(公告)号: | CN115557462A | 公开(公告)日: | 2023-01-03 |
发明(设计)人: | 贺龙兵;卢子煜;谢君 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
主分类号: | B81B7/02 | 分类号: | B81B7/02;B81B7/00;B81C1/00 |
代理公司: | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 | 代理人: | 沈廉 |
地址: | 210096 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具备 气压 传感 功能 原位 加热 芯片 及其 制作方法 | ||
1.一种具备气压传感功能的原位加热芯片,其特征在于:该芯片包含基板芯片与顶板芯片;
所述基板芯片包含第一硅衬底(1),构建在第一硅衬底(1)下表面的第一下表面介质层(2),构建在第一硅衬底(1)上表面的第一上表面介质层(3);顺序构建在第一上表面介质层(3)上的基板芯片接触电极(4)、基板芯片电容极板(6)、基板芯片加热电极(5)、基板芯片支撑柱(7)、基板芯片隔离层(18);贯穿第一硅衬底(1)与第一下表面介质层(2)的第一镂空区(8);将基板加热芯片(5)中心作为观察窗口(16);
所述顶板芯片包含第二硅衬底(9),构建在第二硅衬底(9)下表面的第二下表面介质层(10),构建在第二硅衬底(9)上表面的第二上表面介质层(11);构建在第二上表面介质层(11)上的顶板芯片电容极板(13);顺序构建在第二上表面介质层(11)上的顶板芯片接触电极(12)、顶板芯片支撑柱(14)、顶板芯片隔离层(19);贯穿第二硅衬底(9)与第二下表面介质层(10)第二镂空区(15);
基板芯片与顶板芯片的上表面相对设置使顶板芯片支撑柱(14)与基板芯片支撑柱(7)对准接触封装,形成密封腔。
2.根据权利要求1所述具备气压传感功能的原位加热芯片,其特征在于:所述基板芯片电容极板(6)与顶板芯片电容极板(13)采用叉指状结构,在室温下其电容值大于0.1pF。
3.根据权利要求2所述具备气压传感功能的原位加热芯片,其特征在于:所述基板芯片电容极板(6)与顶板芯片电容极板(13),利用基板芯片电容极板(6)与顶板芯片电容极板(13)构成电容式电极对,用于检测密封腔内气压变化。
4.根据权利要求1所述具备气压传感功能的原位加热芯片,其特征在于:所述基板芯片加热电极(5)用于控制密封腔内部温度,同时通过透射电镜对观察窗口(16)内部样品形貌变化。
5.根据权利要求1所述具备气压传感功能的原位加热芯片,其特征在于:所述基板芯片隔离层(18)与顶板芯片隔离层(19)对粘后形成带有狭缝的隔离带,以减少样本升华对电容极板的污染,提高芯片使用稳定性。
6.根据权利要求1所述具备气压传感功能的原位加热芯片,其特征在于:所述第一下表面介质层(2)、第一上表面介质层(3)、第二下表面介质层(10)、第二上表面介质层(11)采用氮化硅等绝缘材料,要求介质层厚度为5nm~50nm以满足观察窗口(16)厚度需求。
7.根据权利要求1所述具备气压传感功能的原位加热芯片,其特征在于:所述基板芯片接触电极(4)、基板芯片加热电极(5)、基板芯片电容极板(6)、基板芯片支撑柱(7)、顶板芯片接触电极(12)、顶板芯片电容极板(13)、顶板芯片支撑柱(14)、基板芯片隔离层(18)、顶板芯片隔离层(19)的材料为金、铂金属材料,厚度为150nm~250nm。
8.根据权利要求3所述具备气压传感功能的原位加热芯片,其特征在于:所述顶板芯片电容极板(13)厚度小于顶板芯片接触电极(14)的厚度,用于在基板芯片电容极板(6)与顶板芯片电容极板(13)之间留出空间,形成电容式气压传感器。
9.根据权利要求1所述具备气压传感功能的原位加热芯片,其特征在于:所述粘合剂(17)材料为环氧树脂、银胶、ITO、铟或紫外线固化胶。
10.一种如权利要求1所述具备气压传感功能的原位加热芯片的制作方法,其特征在于,该制作方法包括:
步骤1,制备基板芯片:在第一硅衬底(1)的上表面和下表面形成第一上表面介质层(3)、第一下表面介质层(2);在第一上表面介质层(3)上形成基板芯片接触电极(4)、基板芯片加热电极(5)、基板芯片电容极板(6)、基板芯片支撑柱(7)、基板芯片隔离层(18);在第一硅衬底(1)、第一下表面介质层(2)形成贯穿的第一镂空区(8);
步骤2,制备顶板芯片:在第二硅衬底(9)上表面和下表面形成第二上表面介质层(11)、第二下表面介质层(10);在第二上表面介质层(11)上形成顶板芯片电容极板(13);在第二上表面介质层(11)上形成顶板芯片接触电极(12)和顶板芯片支撑柱(14)、顶板芯片隔离层(19);在第二硅衬底(9)、第二下表面介质层(10)形成贯穿的第二镂空区(15);
先用一次金属剥离工艺形成顶板芯片接触电极(12)、顶板芯片电容极板(13)、顶板芯片支撑柱(14)、顶板芯片隔离层(19),再用一次金属剥离工艺对顶板芯片接触电极(12)、顶板芯片支撑柱(14)、顶板芯片隔离层(19)进行加厚以达到和顶板芯片电容极板(13)分层的效果;
步骤3,将待测样品根据实验需求置于基板芯片观察窗口区;
将基板芯片与顶板芯片上表面相对,基板芯片支撑柱(7)与顶板芯片支撑柱(14)对准接触,在基板芯片与顶板芯片交界处涂覆粘合剂(17)进行粘接闭合。
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