[发明专利]一种超高纯GeCl4在审

专利信息
申请号: 202211197989.0 申请日: 2022-09-29
公开(公告)号: CN115477322A 公开(公告)日: 2022-12-16
发明(设计)人: 匡子登;崔丁方;雷华志;彭明清;子光平;缪彦美;李玉章;张阳阳;张虎 申请(专利权)人: 云南驰宏国际锗业有限公司
主分类号: C01G17/04 分类号: C01G17/04
代理公司: 北京名华博信知识产权代理有限公司 11453 代理人: 薛飞
地址: 655011 云南省曲靖*** 国省代码: 云南;53
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摘要:
搜索关键词: 一种 高纯 gecl base sub
【权利要求书】:

1.一种超高纯GeCl4制备方法,其特征在于,步骤如下:

(1)将高纯石英管放置在碳膜机内,在石英管表面镀一层碳膜;

(2)将区熔锗锭放置在镀完碳膜的石英管内;

(3)在石英管上接进气口和出气口,并在出气口处接冷凝器和液态GeCl4盛装桶;

(4)将石英管放置在高频感应线圈内部,待用;

(5)向石英管内通高纯Cl2,排除管内空气;

(6)待管内空气排尽后,打开高频感应线圈电源,通电加热区熔锗,持续供Cl2

(7)打开高频感应线圈的同时打开冷凝器开关通低温冷却盐水,生成的气态GeCl4通过冷凝器冷凝后形成液态,并灌入盛装桶,完成超高纯GeCl4制备。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述石英管是有两对半半圆管道组成,直径为50-150mm。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述碳膜是有正丁烷在碳膜机内离子化分解而成,其厚度大于3.5μm,结构为类金刚石结构。

4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述区熔锗含锗量大于7N。

5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述高频感应线圈内径比石英管外径大5-10mm,线圈输出功率大于1500W。

6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述高纯Cl2纯度大于5N,在石英管内的通入流量30-100L/min,温度10-45℃,压力1-10kPa。

7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(6)中将锗加热到630℃以上,让锗和Cl2自发反应。

8.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述冷凝器内部通-20℃以下的盐水,流量10-40L/min。

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