[发明专利]一种用于晶体拉制时的晶体冷却装置

权利要求书

1.一种用于晶体拉制时的晶体冷却装置，包括上法兰（3）、下法兰（5）、晶体冷却管（7）、冷却介质通道和保温板（30），其特征是：在所述上法兰（3）与下法兰（5）之间设有复数个晶体冷却管（7），在晶体冷却管（7）的外围设有冷却介质通道，所述冷却介质通道的进口通过管道连接冷却源，冷却介质通道的出口通过管道连接冷却介质回收机构，在下法兰（5）的下面设有保温板（30）；或在下法兰（5）的下方设有冷却盘（25），在冷却盘（25）的下面设有保温板（30）形成所述的用于晶体拉制时的晶体冷却装置。

2.根据权利要求1所述的用于晶体拉制时的晶体冷却装置，其特征是：所述冷却盘（25）的中部设有空腔（24），在所述空腔（24）内设有复数个固定柱（26），在每个固定柱（26）上分别设有晶体提拉孔（27），空腔（24）分别连通出水管（23）和进水管（28），所述出水管（23）和进水管（28）连通冷却介质通道。

3.根据权利要求1所述的用于晶体拉制时的晶体冷却装置，其特征是：所述下法兰（5）或冷却盘（25）的下面由外向内设有至少一级向上凹陷的台阶形成阶梯面，在每级阶梯面上分别设置一圈晶体下穿孔（9）或晶体提拉孔（27）。

4.根据权利要求1所述的用于晶体拉制时的晶体冷却装置，其特征是：所述保温板（30）为平板型结构，在保温板（30）上设有复数个穿孔（3001），每个穿孔（3001）分别对应下法兰（5）上的晶体下穿孔（9）或冷却盘（25）上的晶体提拉孔（27），保温板（30）的外形尺寸大于或等于下法兰（5）或冷却盘（25）的外形尺寸。

5.根据权利要求1所述的用于晶体拉制时的晶体冷却装置，其特征是：所述保温板（30）为平板型结构时，在保温板（30）的上面由外向内设有至少一级向上凸起的阶梯台阶（3003），所述阶梯台阶（3003）与下法兰（5）或冷却盘（25）下面的阶梯面对应配合。

6.根据权利要求1所述的用于晶体拉制时的晶体冷却装置，其特征是：所述保温板（30）的替换结构形式为在保温板（30）的中部设置向下凹陷的凹槽形成桶型结构，在保温板（30）上设有复数个穿孔（3001），每个穿孔（3001）分别对应下法兰（5）上的晶体下穿孔（9）或冷却盘（25）上的晶体提拉孔（27），所述凹槽的内缘面与下法兰（5）或冷却盘（25）的外缘面为间隙配合或过盈配合。

7.根据权利要求6所述的用于晶体拉制时的晶体冷却装置，其特征是：所述下法兰（5）或冷却盘（25）的外缘面与凹槽的内缘面间隙配合时，在间隙处设有保温填充物（32）。

8.根据权利要求6所述的用于晶体拉制时的晶体冷却装置，其特征是：所述保温板（30）设置为桶型结构时，在保温板（30）的上面由外向内设有至少一级向上凸起的阶梯台阶（3003），所述阶梯台阶（3003）与下法兰（5）或冷却盘（25）下面的阶梯面对应配合。

9.根据权利要求1所述的用于晶体拉制时的晶体冷却装置，其特征是：所述冷却介质通道设置的第一结构为在上法兰（3）与下法兰（5）之间设置连接筒（4），在所述连接筒（4）内设有复数个晶体冷却管（7），每个晶体冷却管（7）的上端分别连接设置在上法兰（3）上的晶体上穿孔（1），每个晶体冷却管（7）的下端分别连接设置在下法兰（5）上的晶体下穿孔（9），由连接筒（4）的内缘面与上法兰（3）下端面、下法兰（5）上端面之间的空腔形成冷却介质通道，在上法兰（3）上分别设有出水口（2）和进水口（6），所述出水口（2）和进水口（6）分别形成冷却介质通道的进口和出口。