[发明专利]一种主动对准方法、线阵投射模组及深度相机

权利要求书

1.一种主动对准方法，其特征在于，应用于制造线阵投射模组的装调设备，所述线阵投射模组包括光发射组件和光调制组件，其中，所述光调制组件用于对所述光发射组件发射的光束进行调制以投射至目标区域形成相应的线阵光场，所述线阵光场包括多条线状光场，所述多条线状光场呈直线阵列排布；

所述主动对准方法包括：

获取所述光发射组件与所述光调制组件预设的相对位置；

根据所述预设的相对位置移动所述光发射组件和/或所述光调制组件以使所述光发射组件与所述光调制组件当前的相对位置符合所述预设的相对位置；

控制所述光发射组件发光以获取所述光调制组件投射出的线阵光场图像；

将所述线阵光场图像与符合预设规格的预设线阵光场图像进行对比，并根据对比结果移动所述光发射组件和/或所述光调制组件以使所述线阵光场图像符合所述预设规格。

2.如权利要求1所述的主动对准方法，其特征在于，所述获取所述光发射组件与所述光调制组件预设的相对位置，包括：

根据所述线阵投射模组的设计图纸获取所述光发射组件与所述光调制组件预设的相对位置；其中，所述预设的相对位置指示所述光发射组件的光轴与所述光调制组件的光轴相对应。

3.如权利要求1所述的主动对准方法，其特征在于，所述光发射组件及所述光调制组件的移动参照包括x轴、y轴和z轴，其中，所述x轴沿所述线阵光场的长度方向延伸，所述y轴沿所述线阵光场的宽度方向延伸，所述z轴沿所述线阵投射模组指向所述目标区域的方向延伸且垂直于所述x轴和所述y轴；

所述根据对比结果移动所述光发射组件和/或所述光调制组件以使所述线阵光场图像符合所述预设规格，包括：

根据对比结果移动所述光发射组件和/或所述光调制组件以使所述线阵光场图像中所述线状光场的数量符合预设数量；

根据对比结果移动所述光发射组件和/或所述光调制组件以使所述线阵光场图像中每条所述线状光场的宽度均符合预设宽度；

根据对比结果移动所述光发射组件和/或所述光调制组件以使所述线阵光场图像中位于第一中心对称轴两侧的各所述线状光场相互对称；其中，所述第一中心对称轴为沿所述x轴方向的中心对称轴；

根据对比结果移动所述光发射组件和/或所述光调制组件以使所述线阵光场图像中位于第二中心对称轴两侧的区域的像素能量分布相互对称；其中，所述第二中心对称轴为沿所述y轴方向的中心对称轴，所述像素能量分布用于表示所述线阵光场的光场能量分布。

4.如权利要求3所述的主动对准方法，其特征在于，所述根据对比结果移动所述光发射组件和/或所述光调制组件以使所述线阵光场图像中所述线状光场的数量符合预设数量，包括：

根据对比结果控制所述光发射组件和/或所述光调制组件绕所述z轴旋转以使所述线阵光场图像中所述线状光场的数量符合预设数量。

5.如权利要求3所述的主动对准方法，其特征在于，所述根据对比结果移动所述光发射组件和/或所述光调制组件以使所述线阵光场图像中每条所述线状光场的宽度均符合预设宽度，包括：

根据对比结果先控制所述光发射组件和/或所述光调制组件绕所述z轴旋转，再控制所述光发射组件和/或所述光调制组件在所述z轴方向上平移，以使所述线阵光场图像中每条所述线状光场的宽度均符合预设宽度。

6.如权利要求3所述的主动对准方法，其特征在于，所述根据对比结果移动所述光发射组件和/或所述光调制组件以使所述线阵光场图像中位于第一中心对称轴两侧的各所述线状光场相互对称，包括：

根据对比结果控制所述光发射组件和/或所述光调制组件在所述y轴方向上平移以使所述线阵光场图像中位于第一中心对称轴两侧的各所述线状光场相互对称。

7.如权利要求3所述的主动对准方法，其特征在于，所述根据对比结果移动所述光发射组件和/或所述光调制组件以使所述线阵光场图像中位于第二中心对称轴两侧的区域的像素能量分布相互对称，包括：

根据对比结果控制所述光发射组件和/或所述光调制组件在所述x轴方向上平移以使所述线阵光场图像中位于第二中心对称轴两侧的区域的像素能量分布相互对称。