[发明专利]一种脱挥器和利用其进行脱挥的方法

说明书

本申请提出了一种脱挥器和利用其进行脱挥的方法，脱挥器包括脱挥器罐体；设置在所述脱挥器罐体的内腔中的倒锥形分布盘，所述倒锥形分布盘的内壁形成用于物料经过的第一工作面；设置在所述脱挥器罐体的内腔中的锥帽形分布盘，所述锥帽形分布盘的外壁形成用于物料经过的第二工作面，其中，所述倒锥形分布盘与所述锥帽形分布盘相邻式设置，用于使得物料依次经过所述第一工作面和所述第二工作面或者依次经过所述第二工作面和所述第一工作面，该脱挥器具有锥帽形分布盘和倒锥形分布盘，能在较宽的熔体粘度范围和较宽的操作弹性范围内扩展熔体的表面、延长有效脱挥时间，提高脱挥效果。

技术领域

本发明属于聚合物闪蒸脱挥和落条脱挥技术领域，具体涉及一种脱挥器和利用其进行脱挥的方法。

背景技术

在聚合物生产中，反应器的出料中除了含有聚合物产物外，通常还含有低分子量的原料、溶剂、副产物等(统称为“挥发分”)，需要将挥发分从反应液中脱除至可接受残留量以下，才能获得合格的聚合物产品，这一工艺过程称之为“聚合物脱挥”。

聚合物的脱挥过程一般可分为三个阶段：闪蒸脱挥、起泡脱挥、扩散脱挥。随着挥发分含量的降低，脱挥物系粘度增大，挥发分气泡和分子扩散困难，在某些情况下甚至需要通过动态脱挥设备(如螺杆挤出机、卧式圆盘搅拌脱挥器)进行表面更新，使挥发分残留量达到允许值以下。然而，动态脱挥设备造价高、操作费用高，一般仅在静态脱挥设备难以实现时脱挥目标值时，才选用动态脱挥设备。静态落条脱挥设备通过特殊结构的内件，将脱挥物系形成细条状，然后依靠重力降落至脱挥罐底部熔体池。由于细条比表面积大，能提高挥发分在下降过程中的脱除率。但是，常规的落条脱挥设备的有效脱挥时间取决于细条重力下降过程的时间，通常时间较短。流体掉入熔体池后，物料处于堆积状态，而且粘度较大，熔体池中的气泡迁移速度慢，熔体池中的脱挥效果很弱。

扩展熔体表面、延长有效脱挥时间的内构件，仍然是强化静态脱挥效果的关键技术。

发明内容

针对现有技术中所存在的上述技术问题的部分或者全部，提供一种脱挥器和利用其进行脱挥的方法，该脱挥器具有锥帽形分布盘和倒锥形分布盘，能在较宽的熔体粘度范围和较宽的操作弹性范围内扩展熔体的表面、延长有效脱挥时间，提高脱挥效果。

根据本发明的一方面，提出的技术方案为：

一种脱挥器，包括：

脱挥器罐体，

设置在所述脱挥器罐体的内腔中的倒锥形分布盘，所述倒锥形分布盘的内壁形成用于物料经过的第一工作面，

设置在所述脱挥器罐体的内腔中的锥帽形分布盘，所述锥帽形分布盘的外壁形成用于物料经过的第二工作面，

其中，所述倒锥形分布盘与所述锥帽形分布盘相邻式设置，用于使得物料依次经过所述第一工作面和所述第二工作面或者依次经过所述第二工作面和所述第一工作面。

在一个实施例中，在所述脱挥器罐体的内腔中间隔式设置多个所述倒锥形分布盘和所述锥帽形分布盘，并且最上端的所述倒锥形分布盘用于接受进料分布器所供给的物料，所述进料分布器包括：

与外界物料源连通的来料管，

连通式设置在所述来料管的末端的引料管，所述引料管为多个并周向均匀分布设置在最上端的所述倒锥形分布盘的上端以用于向所述倒锥形分布盘的边缘处供给物料。

在一个实施例中，在从上到下的方向上，所述倒锥形分布盘和所述锥帽形分布盘的锥角逐渐增加。

在一个实施例中，各所述倒锥形分布盘和各所述锥帽形分布盘与所述脱挥器罐体的内壁间隔式分布，用于形成气体通道。

在一个实施例中，在所述倒锥形分布盘的外壁上套接固定套，在所述固定套与所述脱挥器罐体的内壁之间设置支腿，